使用GSL-1700X-SPC-2設(shè)備在Si片上蒸鍍Cu,，探索設(shè)備蒸鍍膜厚大及小值。

實(shí)驗(yàn)過(guò)程：

圖1設(shè)備                        圖2蒸發(fā)料

原料：銅段（蒸發(fā)料,，銅導(dǎo)線內(nèi)芯）,，Si基底（酒精超聲清洗30min,，后使用去離子水超聲清洗30min,，真空烘箱70℃烘干）,。使用分子泵抽真空，待真空度到達(dá)10⁰時(shí),，利用氮?dú)鈱?duì)腔室進(jìn)行洗氣三至四次,。洗氣結(jié)束，待分子泵抽真空至10^-4Torr,，開始給爐子加熱,，升溫曲線0.6℃/s，升溫至相應(yīng)溫度,，玻璃罩出現(xiàn)金屬色后打開擋板蒸鍍,。

實(shí)驗(yàn)結(jié)果如下：

結(jié)論：

1、GSL-1700X-SPC-2設(shè)備在Si基底上鍍Cu,，薄（膜厚儀可檢測(cè)）可蒸鍍至14.8nm

2,、GSL-1700X-SPC-2設(shè)備在Si基底上鍍Cu，厚（起皮前）可蒸鍍至37.72μm

特別聲明：

1. 以上所有實(shí)驗(yàn)僅為初步探究,，僅供參考,。由于我們水平有限，錯(cuò)誤疏漏之處歡迎指出,，我們非常期待您的建議,。

2. 歡迎您提出其他實(shí)驗(yàn)思路，我們來(lái)驗(yàn)證,。

3. 以上實(shí)驗(yàn)案例及數(shù)據(jù)只針對(duì)科晶設(shè)備,，不具有普遍性。

4. 因?yàn)樯婕氨Ｃ軉?wèn)題,，以上數(shù)據(jù)僅為部分?jǐn)?shù)據(jù),，歡迎老師與我們聯(lián)系，我們非常期待和您共同探討設(shè)備的應(yīng)用技術(shù),。