Subnano3D干涉輪廓儀不得不說的優(yōu)點(diǎn)

來源：岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司 2020年09月25日 11:27

Subnano3D干涉輪廓儀建立在移相干涉測量(PSI),、白光垂直掃描干涉測量(VSI)和單色光垂直掃描干涉測量(CSI)等技術(shù)的基礎(chǔ)上，以其納米級(jí)測量準(zhǔn)確度和重復(fù)性(穩(wěn)定性)定量地反映出被測件的表面粗糙度、表面輪廓、臺(tái)階高度,、關(guān)鍵部位的尺寸及其形貌特征等,。廣泛應(yīng)用于集成電路制造,、MEMS、航空航天,、精密加工,、表面工程技術(shù)、材料,、太陽能電池技術(shù)等領(lǐng)域,。

Subnano3D干涉輪廓儀產(chǎn)品優(yōu)點(diǎn)：

1,、美國硅谷研發(fā)的核心技術(shù)和系統(tǒng)軟件,。

2、關(guān)鍵硬件采用美國,、德國、日本等,。

3,、PI納米移動(dòng)平臺(tái)及控制系統(tǒng)。

4,、Nikon干涉物鏡,。

5、NI信號(hào)控制板和Labview64 控制軟件,。

6,、TMC光學(xué)隔振臺(tái)。

7,、測量準(zhǔn)確度重復(fù)性達(dá)到不錯(cuò)的水平(中國計(jì)量科學(xué)研究院證書),。

相關(guān)產(chǎn)品

免責(zé)聲明

凡本網(wǎng)注明“來源：化工儀器網(wǎng)”的所有作品，均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡(luò)有限公司-化工儀器網(wǎng)合法擁有版權(quán)或有權(quán)使用的作品,，未經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)不得轉(zhuǎn)載,、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)使用作品的,，應(yīng)在授權(quán)范圍內(nèi)使用,，并注明“來源：化工儀器網(wǎng)”。違反上述聲明者,，本網(wǎng)將追究其相關(guān)法律責(zé)任,。
本網(wǎng)轉(zhuǎn)載并注明自其他來源（非化工儀器網(wǎng)）的作品,，目的在于傳遞更多信息,，并不代表本網(wǎng)贊同其觀點(diǎn)和對其真實(shí)性負(fù)責(zé)，不承擔(dān)此類作品侵權(quán)行為的直接責(zé)任及連帶責(zé)任,。其他媒體,、網(wǎng)站或個(gè)人從本網(wǎng)轉(zhuǎn)載時(shí),，必須保留本網(wǎng)注明的作品第一來源，并自負(fù)版權(quán)等法律責(zé)任,。
如涉及作品內(nèi)容,、版權(quán)等問題，請?jiān)谧髌钒l(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系,，否則視為放棄相關(guān)權(quán)利,。

Subnano3D干涉輪廓儀不得不說的優(yōu)點(diǎn)

免責(zé)聲明

聯(lián)系我們

關(guān)注我們