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1200℃開啟式管式爐PECVD系統(tǒng)

來源:鄭州宏朗儀器設備有限公司   2020年06月04日 19:03  

功能特點:
在真空壓力下,加在電感線圈的射頻電場,,使反應室氣體發(fā)生輝光放電,,在輝光發(fā)電區(qū)域產(chǎn)生大量的電子,。這些電子在電場的作用下獲得充足的能量,其本身溫度很高,,它與氣體分子相碰撞,,使氣體分子活化。它們吸附在襯底上,,并發(fā)生化學反應生成介質(zhì)膜,,副產(chǎn)物從襯底上解吸,隨主氣流由真空泵抽走,,稱為等離子體增強化學氣相沉(PECVD)
產(chǎn)品用途:
PECVD開啟式管式爐系統(tǒng)由開啟式管式爐,、高真空分子泵系統(tǒng)、射頻電源系統(tǒng)及多通道高精度數(shù)字質(zhì)量流量控制系統(tǒng)組成,,是實驗室生長薄膜石墨烯,,金屬薄膜,陶瓷薄膜,,復合薄膜等的理想選擇,。
適用于高校、科研院所用于真空鍍膜,、納米薄膜材料制備,,生長薄膜石墨烯,,金屬薄膜,陶瓷薄膜,,復合薄膜等,,也可作為擴展等離子清洗刻蝕使用
產(chǎn)品參數(shù)

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