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NexION 300S ICP-MS 對光刻膠中的Si的分析

閱讀：329 發(fā)布時間：2020-05-21

使用ICP,、ICP-MS分析時存在光學(xué)干擾,，而儀器的結(jié)構(gòu)又決定了Si的檢出限比其他元素更高，所以為了分析低濃度的Si，必須去除光學(xué)干擾或更換儀器進(jìn)樣系統(tǒng) ( 霧室,、霧化器,、中心管、炬管 ),。

本實(shí)驗(yàn)的目的是利用NexION 的 DRC模式確定分析Si的條件,。

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