在這種情況下，雖然可以用ICP,、ICP-MS對高純硅進行分析,但在預(yù)處理過程中必須添加大量HF來使Si*溶解,分析時存在一定難度,。使用ICP、ICP-MS分析時存在光學(xué)干擾,而儀器的結(jié)構(gòu)又決定了Si的檢出限比其他元素更高,所以為了分析低濃度的Si,必須去除光學(xué)干擾或更換儀器進樣系統(tǒng)(霧室,、霧化器,、中心管、炬管),。
本實驗的目的是利用NexION的DRC模式確定分析Si的條件,。
提供商 |
珀金埃爾默企業(yè)管理（上海）有限公司 | 下載次數(shù) |
71次 |
資料大小 |
1.1MB | 資料類型 |
PDF 文件 |
資料圖片 |
-- | 瀏覽次數(shù) |
1646次 |
(空格分隔,最多3個,單個標(biāo)簽最多10個字符)
17
立即詢價
您提交后,，專屬客服將第一時間為您服務(wù)