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目錄:牛津儀器(上海)有限公司>>ICP Etching>> PlasmaPro 80 ICP

PlasmaPro 80 ICP
  • PlasmaPro 80 ICP
參考價 面議
具體成交價以合同協(xié)議為準
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更新時間：2022-11-30 17:46:04瀏覽次數(shù)：223評價

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PlasmaPro 80 ICP是一種結構緊湊、小型且使用方便的直開式系統(tǒng),，可提供多種刻蝕解決方案,。 它易于放置，便于使用,，且能夠確保工藝質量,。直開式設計允許快速的進行晶圓裝卸，是科學研究,、原型設計和少量生產的理想選擇,。 該設備通過優(yōu)化了的電極冷卻技術和出色的襯底溫度控制來實現(xiàn)高度穩(wěn)定的工藝結果。 詢價 增加到詢價列表 在詢價列表中查看此產品
  • III-V族材料刻蝕工藝
  • 硅 Bosch和超低溫刻蝕工藝
  • 二氧化硅和石英刻蝕
  • 用于失效分析的干法刻蝕解剖工藝,，可處理封裝好的芯片,、 裸晶片以及200mm晶圓
  • 用于高亮度LED生產的硬掩模的沉積和刻蝕
Top dielectric layer removed, exposing four metal layers

    去除頂部介電層，露出四層金屬層

    Top dielectric layer removed, exposing four metal layers

    去除頂部介電層,，露出四層金屬層

    Low damage FA etching in the ICP65

    用ICP65進行低損傷的FA刻蝕

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