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VPS-RF210 大型真空等離子體清洗設備簡介：

VPS-RF210是一款大型真空等離子體清洗設備,，適用于大批量工業(yè)生產(chǎn)使用,。等離子體清洗通過其中的活性離子與物體表面發(fā)生化學反應來達到清洗的目的。例如通過氧氣清潔物體表面的有機物,，產(chǎn)生氧化反應，氧等離子體和污染物產(chǎn)生二氧化碳,、氧化碳和水,。通過氮氣電離形成的等離子體可以與部分子結構發(fā)生關鍵反應，因此它也是一種活性氣體,，但與氧氣和氫氣相比,，顆粒相對較重；在清洗和活化的同時,，可以達到一定的轟擊和蝕刻效果,，防止部分金屬表面氧化。如今,，等離子清洗機廣泛用于當代半導體,、電路等行業(yè)，在元件封裝前,、芯片鍵合前可借助等離子清洗處理,，其優(yōu)點是清除效率高，不會對樣品表面造成損傷,，從而提升產(chǎn)品的質量,。

VPS-RF210 大型真空等離子體清洗設備特點：歐美放電技術，專業(yè)型放電結構，科學仿真等離子體分布均勻,，處理效果均勻,。

產(chǎn)品應用：提高親水性、改善粘接性,、表面微刻蝕,、有機物去除、提高表面能,、提高印刷油墨附著力,。

產(chǎn)品參數(shù)：