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ED-3000MIKASA米卡薩 顯影和蝕刻設備
| 參考價: | ￥ 13000 |
| 訂貨量: | 1件 |
具體成交價以合同協(xié)議為準- ED-3000 產(chǎn)品型號
- MIKASA/米卡薩 品牌
- 經(jīng)銷商 廠商性質(zhì)
- 成都市 所在地
訪問次數(shù)：35更新時間：2025-05-27 16:55:32
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產(chǎn)品介紹
MIKASA米卡薩 顯影和蝕刻設備 ED-3000
MIKASA米卡薩 顯影和蝕刻設備 ED-3000
顯影和蝕刻設備是半導體制造和微電子加工中的核心工藝裝備,，主要用于圖形轉移和微納結構加工。顯影設備通過化學溶液去除曝光后的光刻膠可溶部分,，形成所需圖案,；蝕刻設備則通過物理或化學方法去除未被光刻膠保護的基底材料，實現(xiàn)圖形轉移,。
主要設備類型：
顯影設備：
噴淋式顯影機
浸漬式顯影機
超聲波輔助顯影機
蝕刻設備：
濕法蝕刻設備（化學溶液）
干法蝕刻設備（等離子體）
反應離子蝕刻（RIE）
深硅蝕刻（DRIE）
設備特點
高精度加工能力：
可實現(xiàn)納米級圖形轉移（<10nm）
各向異性蝕刻控制（側壁角度可調(diào)）
高深寬比加工（最高可達50:1）
先進工藝控制：
精確的溫度控制系統(tǒng)（±0.1℃）
實時終點檢測技術
多參數(shù)閉環(huán)控制
材料兼容性廣：
硅,、化合物半導體、金屬等多種材料
有機/無機介質(zhì)材料
新型二維材料
智能化系統(tǒng)：
自動配方管理
故障自診斷
遠程監(jiān)控
環(huán)保設計：
廢氣處理系統(tǒng)
廢液回收裝置
低耗材設計
顯影和蝕刻設備作為微納制造的關鍵裝備,，其技術水平直接決定了集成電路和微器件的性能與可靠性,。隨著半導體技術節(jié)點的不斷推進和新興應用的涌現(xiàn)，新一代設備正向著更高精度,、更高效率,、更智能環(huán)保的方向發(fā)展。未來,，這些設備將繼續(xù)在推動信息技術進步,、賦能新興產(chǎn)業(yè)發(fā)展方面發(fā)揮不可替代的作用。
室 | 聚氯乙烯 | 轉速 | 0~3,000轉/分 |
基板尺寸 | φ1“ ~ φ12" （220×220mm） | 聯(lián) 鎖 | 真空吸附確認傳感器 加工腔蓋聯(lián)鎖 噴嘴移動超限 限制器 |
化學泵送 | 加壓罐壓力泵 | ||
化學品排放 | 噴霧排放 （擺動噴嘴型） | 權力 | AC200V 三相 15A |
| 尺寸 （mm） 當門打開時 | 720W×500H×520D 910H | ||
步數(shù) | 48 步 跳拷貝功能 | ||
| 程序模式 | 10 模式 | 重量 | 60 公斤 |
| 工藝（標準） | 蝕刻液：1 個系統(tǒng)（2 個噴嘴） 沖洗：1 個系統(tǒng)（2 個噴嘴） 反 沖洗：1 個 | 關鍵選項 | 化學溫度管理系統(tǒng) （加壓法） 各種基板支架 安裝工作臺 |
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