KASHIYAMA SDE200 真空泵

產(chǎn)品簡介

KASHIYAMA SDE200 真空泵 是日本樫山工業(yè)（Kashiyama Industries, Ltd.）推出的一款高性能干式真空泵,，隸屬于 SDE 系列,，專為應對半導體、顯示器,、化學氣相沉積（CVD）等苛刻工藝環(huán)境而設計,。

技術(shù)參數(shù)

• 大抽速性能：最大抽速可達 3,300 L/min，滿足苛刻工藝對真空效率的高要求,。

• 低極限壓力：極限真空度低至 1.3 Pa,，在未使用氮氣吹掃時亦可維持高性能穩(wěn)定運行。

• 干式運行設計：無油結(jié)構(gòu)避免了污染風險,，特別適合潔凈室環(huán)境和高純度工藝,。

• 高可靠性結(jié)構(gòu)：垂直安裝的雙螺桿結(jié)構(gòu)可有效防止顆粒堆積，延長泵體壽命,。

• 適應惡劣氣氛：配備高耐腐蝕材料與溫控系統(tǒng),，適用于處理腐蝕性和反應性氣體。

產(chǎn)品特點

• 大抽速性能：最大抽速可達 1,300 L/min,，滿足苛刻工藝對真空效率的高要求,。

• 低極限壓力：極限真空度低至 1.3 Pa，在未使用氮氣吹掃時亦可維持高性能穩(wěn)定運行,。

• 干式運行設計：無油結(jié)構(gòu)避免了污染風險,，特別適合潔凈室環(huán)境和高純度工藝。

• 高可靠性結(jié)構(gòu)：垂直安裝的雙螺桿結(jié)構(gòu)可有效防止顆粒堆積，延長泵體壽命,。

• 適應惡劣氣氛：配備高耐腐蝕材料與溫控系統(tǒng),，適用于處理腐蝕性和反應性氣體。

應用領(lǐng)域

• 半導體蝕刻設備（Etch）

• 化學氣相沉積（CVD,、PE-CVD,、LP-CVD、SA-CVD）

• 原子層沉積（ALD）

• OLED 與液晶面板制造

• 精密薄膜沉積與剝離工藝

• 實驗室與潔凈室真空系統(tǒng)

可選功能配置

• 前級加熱排氣配管系統(tǒng)：防止冷凝和積碳,，增強系統(tǒng)穩(wěn)定性,。

• 多級溫控系統(tǒng)：根據(jù)不同應用調(diào)節(jié)泵體溫度，提高兼容性,。

• 除害裝置聯(lián)動接口：支持等離子,、燃燒、冷凝等除害方式接入,，提升環(huán)保性能,。

• 遠程監(jiān)控與報警系統(tǒng)：實時掌握泵體運行狀態(tài)，便于系統(tǒng)集成與自動化管理,。