紫外線表面清洗

１紫外線表面清洗

紫外線表面清洗是近年來(lái)新興的清洗方法。紫外線表面清洗法不同于原有清洗法,，沒(méi)有污水,，污氣產(chǎn)生,。是高能環(huán)保型清洗殺菌方法,。廣泛運(yùn)用于LCD,PCB,，點(diǎn)子，印刷,，塑膠，玻璃,，涂裝等領(lǐng)域,。

紫外線清洗是是利用有機(jī)化合物的光敏氧化作用達(dá)到去除附著在材料表面的有機(jī)物質(zhì)。經(jīng)過(guò)廣清洗后的材料表面可以達(dá)到高清潔度,。

其主要原理為紫外線燈發(fā)出的 185nm波長(zhǎng)和254nm波長(zhǎng)具有很高的能量,，高于大多數(shù)有機(jī)物的結(jié)合能量。由于大多數(shù)碳?xì)浠衔飳?duì)185nm波長(zhǎng)的紫外線具有較強(qiáng)的吸收能力,，并且可以在吸收185nm波長(zhǎng)后分解成例子,，流利態(tài)院子，受激分子和中子等,，這就是光敏作用,?？諝庵械难醴肿釉谖樟?85nm波長(zhǎng)的紫外光后，會(huì)產(chǎn)生臭氧和氧氣,，臭氧對(duì)254nm波長(zhǎng)具有很強(qiáng)的吸收性,，臭氧有可以分解為氧原子和氧氣。氧原子具有的氧化性,，可以將碳?xì)浠湘I切斷,，生成水，二氧化碳等易揮發(fā)氣體,，從被照射物表面飄逸出,，清除物體表面的污染物。這就是紫外線清洗的原理,。

清洗法有干洗和濕洗兩種,。干洗有UV臭氧清洗，等離子清洗,，離子清洗等,。濕洗有水洗，堿清洗,，酸清洗,，液體噴射清洗等。我們?nèi)粘Ｋ煜さ臐袷角逑从锌梢郧逑吹糨^大范圍污染的優(yōu)點(diǎn),。但是也會(huì)有清洗不掉的污染,。同時(shí)由于清洗的溶劑會(huì)在被清洗物表面殘留，因此對(duì)于高精密世界來(lái)說(shuō)也是個(gè)污染,。

與此相反UV紫外線清洗雖然不能清洗掉大范圍的污染,，卻可以清洗到各個(gè)角落的就是光洗凈技術(shù)（以下簡(jiǎn)稱UV臭氧清洗）。在納米技術(shù)世界里,，我們雖然看不到有機(jī)性污染,，但是有機(jī)污染在表面形成膜（軟接著層）如果在這層膜上印刷的話，就會(huì)出現(xiàn)鮮度惡化以及針孔等障礙,。UV臭氧清洗可以去除的污染有有機(jī)化合物以及含有油脂的污染等,。