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產(chǎn)品型號JS-PECVD-D12111H-5QG

品牌九所科技

廠商性質(zhì)生產(chǎn)商

所在地天津市

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更新時間：2025-03-04 16:48:26瀏覽次數(shù)：131次

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產(chǎn)品簡介

產(chǎn)地類別	國產(chǎn)	應(yīng)用領(lǐng)域	化工,生物產(chǎn)業(yè),能源,電子/電池,電氣

PECVD設(shè)備是一種利用等離子體技術(shù)來促進化學反應(yīng)的設(shè)備，具有高沉積速率,、高均勻性和高附著力等特點,，能夠制備出高質(zhì)量、高性能的薄膜材料,。應(yīng)用領(lǐng)域包括但不限于光伏產(chǎn)業(yè),、顯示器制造、半導體制造,、光學領(lǐng)域,、生物醫(yī)學領(lǐng)域等。九所科技生產(chǎn)的PECVD設(shè)備采用高純石英原件,，具有出色的高熱穩(wěn)定性,，且具有完善的安全保護功能，能夠有效地防止實驗過程中意外情況的發(fā)生,。根據(jù)客戶需求進行擴展和升級,，滿足不同領(lǐng)域的研究需求

詳情介紹

九所科技PECVD實驗設(shè)備廠家定制定做

PECVD設(shè)備是一種利用等離子體技術(shù)來促進化學反應(yīng)的設(shè)備，PECVD設(shè)備的工作原理基于化學氣相沉積（CVD）,，但通過引入等離子體能量,，可以提高反應(yīng)速率、降低反應(yīng)溫度,、改變薄膜成分和結(jié) 構(gòu) ,，以及增強薄膜的附著力和致密性。在 PECVD過程中,，使用低氣壓下的低溫等離子體在沉積室的陰極觸發(fā)輝光放電,，或通過其他加熱裝置將樣品加熱至設(shè)定溫度，并引入特定量的工藝氣體,。這些氣體在等離子體的作用下進行多種化學反應(yīng),，最終在樣品表面生成一層固態(tài)薄膜。滿足不同領(lǐng)域的研究需求,。