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FLX-2320-R-薄膜應(yīng)力測試儀/日本TOHO
  • FLX-2320-R-薄膜應(yīng)力測試儀/日本TOHO

貨物所在地:上海上海市

地: 日本

更新時(shí)間:2025-04-27 11:27:24

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薄膜應(yīng)力量測設(shè)備FLX系列設(shè)備是由日本TOHO公司所生產(chǎn)的,,廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)薄膜應(yīng)力的量測。
測試原理
在硅晶圓或者其他材料基地上附著薄膜,,由于襯底于薄膜的物理常數(shù)不同,,將會產(chǎn)生應(yīng)力而導(dǎo)致襯底基板形變。由于均勻附著的薄膜引起的形變表現(xiàn)為基板翹曲,,因此,,可依據(jù)翹曲(曲率半徑)的變化量計(jì)算應(yīng)力,。本薄膜應(yīng)力測量設(shè)備用下述方法測量附著表面上的薄膜引起的基板曲率半徑變化量。

日本TOHO FLX系列

薄膜應(yīng)力量測設(shè)備FLX系列設(shè)備是由日本TOHO公司所生產(chǎn)的,,廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)薄膜應(yīng)力的量測,。

測試原理

在硅晶圓或者其他材料基地上附著薄膜,由于襯底于薄膜的物理常數(shù)不同,,將會產(chǎn)生應(yīng)力而導(dǎo)致襯底基板形變,。由于均勻附著的薄膜引起的形變表現(xiàn)為基板翹曲,因此,,可依據(jù)翹曲(曲率半徑)的變化量計(jì)算應(yīng)力,。本薄膜應(yīng)力測量設(shè)備用下述方法測量附著表面上的薄膜引起的基板曲率半徑變化量。

設(shè)備特點(diǎn)

(1)雙光源掃描(可見光激光源及不可見光激光源),,系統(tǒng)可自動選擇匹配之激光源,;

(2)系統(tǒng)內(nèi)置升溫、降溫模擬系統(tǒng),,便于量測不同溫度下薄膜的應(yīng)力,,溫度調(diào)節(jié)范圍為-65℃至500℃;

(3)自帶常用材料的彈性系數(shù)數(shù)據(jù)庫,,并可根據(jù)客戶需要添加新型材料相關(guān)信息至數(shù)據(jù)庫,便于新材料研究,;

(4)形象的軟件分析功能,,用于不同測量記錄之間的比較,且測量記錄可導(dǎo)出成Excel等格式的文檔,;

(5)具有薄膜應(yīng)力3D繪圖功能,;

主要規(guī)格

型號

FLX-2320-S

FLX-2320-R

FLX-3300-T

FLX-3300-R

溫度

溫度范圍

室溫~50O°C

(可選:-65'C~500'C)

室溫

室溫~50O°C

(可選: -65'C~500'C)

室溫

升溫速度

~25'C/分鐘   (Max.)

------

~25'C/分鐘  (Max.)

------

調(diào)節(jié)功能

內(nèi)置調(diào)零機(jī)構(gòu)

------

內(nèi)置調(diào)零機(jī)構(gòu)

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樣品尺寸

75-200mm

75-200mm

300mm

300mm

掃描范圍

200mm

200mm

300mm

300mm

晶圓繪圖

手動

自動

手動

自動

測量重現(xiàn)性

1.3MPa

晶圓輸送方式

手動

脫附氣體

N2或者Ar氣體

(1.5L/分鐘/0.3kg/cm2)

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N2或者Ar氣體

(1.5L/分鐘/0.3kg/cm2)



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