RTP-100/150快速退火爐為德國優(yōu)尼坦公司生產(chǎn),，分為RTP-100, RTP-150, RSO-200,VPO-300共四個型號,，分別對應(yīng)4英寸、6英寸,、8英寸,、12英寸的真空快速退火爐產(chǎn)品。
技術(shù)規(guī)格：
- 溫度：1200攝氏度,；
- 升溫速率：150攝氏度/秒,；
- 降溫速度：200攝氏度/分鐘 (1000攝氏度-->400攝氏度)；
- 溫控均勻性：≤ 1.5%設(shè)定溫度,；
- 加熱方式：紅外鹵素燈,，頂部及底部加熱；
- 燈管數(shù)量及功率：18支/20千瓦(RTP-100),，24支/21千瓦(RTP-150),；
- 腔體冷卻：水冷方式；
- 襯底冷卻：氮氣吹掃,；
- 工藝氣路：MFC控制,，最多4路 (氮氣、氬氣,、氧氣,、氫氮混合氣等),；
- 主機尺寸及重量：505mm x 504mm x 420mm (W x D x H)，約55Kg,；
儀器特點：
- 真空快速退火爐,，有低真空型號(10-3 hPa)、高真空型號(10-6 hPa),；
- 可在不同氣氛環(huán)境下使用,，如惰性氣體、氧氣,、氫氮混合氣等,；
- 控制方式：SIMATIC, SPS人機界面控制，7英寸觸摸屏,；
- 可存儲50個程序,，每個程序最多分為50段控制；
- 全自動智能控制,，包括溫度,、時間、氣體流量,、真空度,、循環(huán)水均可自動設(shè)置；
- 優(yōu)異的溫控均勻性,，佳的工藝重現(xiàn)性,；
- 小尺寸臺式設(shè)計；
應(yīng)用領(lǐng)域：
- 離子注入/接觸退火,；
- 快速熱處理(RTP),，快速退火(RTA)，快速熱氧化(RTO),，快速熱氮化(RTN),；
- 可在真空、惰性氣氛,、氧氣,、氫氣、混合氣等不同環(huán)境下使用,；
- SiAu, SiAl, SiMo合金化,；
- 低介電材料；
- 晶體化,，致密化,；
- 太陽能電池片鍵合；
等等...
參考客戶：
西安交通大學、西安電子科技大學,、中國科技大學、江漢大學,、中科院上海技術(shù)物理所,、中科院蘇州納米所、北京航天儀器研究所,、京東方,、武漢光迅、能華微電子等,。
