真空快速退火爐AS-One
AS-One是一種通用的RTP系統(tǒng),，可用于開發(fā)快速熱退火和快速熱CVD工藝。
可以搭配分子泵實現(xiàn)高真空下熱處理工藝,。
ZG溫度1500 ℃,，升溫速率200℃/Second。
全程PC軟件控制升溫程序,，保證溫度不過沖,，控溫精度準確。
應(yīng)用：
• RTA（快速熱退火）
• RTO（快速熱氧化）
• 歐姆接觸退火
• 植入退火
• 石墨烯和hBN的快速熱化學氣相沉積RTCVD
• 硒化,，硫化
• 結(jié)晶和致密化
產(chǎn)品特點：
1,、 紅外鹵素燈管加熱，冷卻采用風冷（低噪音水平,，無需壓縮空氣）,；
2,、加熱由功率控制而非電壓控制，避免了由于燈絲老化電阻改變導致的后續(xù)使用中加熱不均的問題,，保證了良好的重現(xiàn)性及均溫性,，即使在后續(xù)使用過程中更換了部分新的燈管也可以達到最初的熱處理效果；
3,、石英腔體,，腔體冷卻采用水冷，冷壁設(shè)計,，雙層不銹鋼,；
冷壁水冷技術(shù)優(yōu)點在于：1、無記憶,，2,、工藝重復性高，3,、冷卻速度快,；
4、反應(yīng)腔室的設(shè)計,，氣體的進入口設(shè)計在wafer的表面,，避免在退火過程中冷點的產(chǎn)生。很好的保證了樣品在加熱過程中的均溫性,；
5,、快速數(shù)字PID控溫；
6,、熱電偶配合高溫計控溫,，測試樣品的溫度，控溫JZ,；
7,、大氣和真空工藝均適合，凈化氣體配針閥,；
8,、最多5路工藝氣體，配數(shù)字質(zhì)量流量控制器,；
9,、電腦通過以太網(wǎng)連接更快的數(shù)據(jù)傳輸速度；
10,、可選配石墨托盤表面涂SiC薄膜設(shè)計,，用于小樣品測試；
11、可選配分子泵,，用于高真空測試,；
產(chǎn)品標準配置及規(guī)格參數(shù)：
1、樣品ZD尺寸：AS-One100：4-inch,；AS-One150 ：6-inch,；
2、溫度范圍：AS-One100室溫~1250 ℃,；（室溫~1500 ℃可選）
AS-One150室溫~1200 ℃,；（室溫~1300 ℃可選）
3、升溫速率：AS-One100 ：0.1 ℃~250 ℃/s ,；
AS-One150 ：0.1 ℃~200 ℃/s ,；
4、溫度控制：快速數(shù)字PID控制,；
5,、熱電偶：2個K型熱電偶；
6,、低溫高溫計溫度范圍：150℃~1100 ℃,；
7、高溫高溫計溫度范圍：400℃~1500 ℃,；
8,、工藝氣體氣路配質(zhì)量流量計；
9,、配置真空泵及真空規(guī)；
