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MicroWriter ML3-直寫光刻機(jī)

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貨物所在地：上海上海市

所在地： 英國(guó)

更新時(shí)間：2025-04-27 11:09:45

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產(chǎn)品分類品牌分類

霍爾效應(yīng)測(cè)試儀

微納測(cè)試儀器: 薄膜應(yīng)力測(cè)試儀

微納工藝設(shè)備: 貼片機(jī) 劃片機(jī) 鍵合機(jī)

離子注入機(jī)

快速退火爐: 真空回流焊爐

鐵電測(cè)試儀器: 鐵電分析儀

磁學(xué)測(cè)量系統(tǒng): 振動(dòng)樣品磁強(qiáng)計(jì)VSM

光刻機(jī): 直寫光刻機(jī)

單晶爐

光譜儀: 深能級(jí)瞬態(tài)譜儀

電子顯微鏡

能譜儀

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介詳細(xì)介紹

小型臺(tái)式無掩膜光刻機(jī)- MicroWriter ML3是英國(guó)公司專為實(shí)驗(yàn)室設(shè)計(jì)開發(fā),，為微流控、SAW,、半導(dǎo)體,、自旋電子學(xué)等研究領(lǐng)域提供方便高效的微加工方案。

小型臺(tái)式無掩膜光刻機(jī)- MA1200

小型臺(tái)式無掩膜光刻機(jī)- MicroWriter ML3是英國(guó)公司專為實(shí)驗(yàn)室設(shè)計(jì)開發(fā),，為微流控,、SAW、半導(dǎo)體,、自旋電子學(xué)等研究領(lǐng)域提供方便高效的微加工方案,。

傳統(tǒng)的光刻工藝中所使用的鉻玻璃掩膜板需要由專業(yè)供應(yīng)商提供，但是在研發(fā)環(huán)境中,，掩膜板的設(shè)計(jì)通常需要經(jīng)常改變,。無掩膜光刻技術(shù)通過以軟件設(shè)計(jì)電子掩膜板的方法，克服了這一問題,。與通過物理掩膜板進(jìn)行光照的傳統(tǒng)工藝不同,，激光直寫是通過電腦控制一系列激光脈沖的開關(guān)，在光刻膠上直接曝光繪出所要的圖案,。

MA1200 是一款多功能激光直寫光刻系統(tǒng),，具有結(jié)構(gòu)小巧緊湊(70cm x 70cm x 70cm),，無掩膜直寫系統(tǒng)的靈活性，還擁有高直寫速度,，高分辨率的特點(diǎn),。采用集成化設(shè)計(jì)，全自動(dòng)控制,，可靠性高,，操作簡(jiǎn)便。適用于各種實(shí)驗(yàn)室桌面,。

直寫光刻機(jī)

產(chǎn)品特點(diǎn)

Focus Lock自動(dòng)對(duì)焦功能 Focus Lock技術(shù)是利用自動(dòng)對(duì)焦功能對(duì)樣品表面高度進(jìn)行探測(cè),，并通過Z向調(diào)整和補(bǔ)償，以保證曝光分辨率,。	光學(xué)輪廓儀 MicroWriter ML3 配備光學(xué)輪廓探測(cè)工具,，用于勻膠后沉積層，蝕刻層,，MEMS等前道結(jié)構(gòu)的形貌探測(cè)與套刻,。Z向高精度100 nm，方便快捷,。

標(biāo)記物自動(dòng)識(shí)別點(diǎn)擊“Bulls-Eye"按鈕,，系統(tǒng)自動(dòng)在顯微鏡圖像中識(shí)別光刻標(biāo)記。標(biāo)記物被識(shí)別后,，將自動(dòng)將其移動(dòng)到顯微鏡中心位置,。	直寫前預(yù)檢查軟件可以實(shí)時(shí)顯微觀測(cè)基體表面，并顯示預(yù)直寫圖形位置,。通過實(shí)時(shí)調(diào)整位置,、角度，直到設(shè)計(jì)圖形按要求與已有結(jié)構(gòu)重合,，保證直寫準(zhǔn)確,。

簡(jiǎn)單的直寫軟件 MicroWriter 由一個(gè)簡(jiǎn)單直觀的Windows界面軟件控制。工具欄會(huì)引導(dǎo)使用者進(jìn)行簡(jiǎn)單的布局設(shè)計(jì),、基片對(duì)準(zhǔn)和曝光的基本操作,。該軟件在Windows10系統(tǒng)下運(yùn)行。	Clewin 掩膜圖形設(shè)計(jì)軟件 ● 可以讀取多種圖形設(shè)計(jì)文件（DXF, CIF, GDSII, 等） ● 可以直接讀取TIFF, BMP 等圖片格式 ● 書寫范圍只由基片尺寸決定