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高能分辨率深能級瞬態(tài)譜(DLTS)
PhysTech在1990年推出了一臺數(shù)字DLTS,,隨著電腦技術(shù)的發(fā)展,,使得在短時間內(nèi)進行復雜計算成為可能。在純指數(shù)發(fā)射過程模型的基礎(chǔ)上,,用各種數(shù)學模型分析測量到的瞬態(tài)過程,,如傅里葉轉(zhuǎn)換、拉普拉斯轉(zhuǎn)換,、多指數(shù)瞬態(tài)擬合,、ITS(等溫瞬態(tài)光譜)信號重疊法、溫度掃描信號重疊法(重折疊),。與其他系統(tǒng)相比,,HERA-DLTS具有能量分辨率。
半導體的摻雜濃度,、缺陷能級位,、界面態(tài)(俘獲界面)是研究半導體性質(zhì)的重要手段。此設(shè)備根據(jù)半導體P-N 結(jié),、金-半接觸結(jié)構(gòu)肖特基結(jié)的瞬態(tài)電容(△C~t)技術(shù)和深能級瞬態(tài)譜(DLTS)的發(fā)射率窗技術(shù)測量出的深能級瞬態(tài)譜,,是一種具有很高檢測靈敏度的實驗方法,能檢測半導體中微量雜質(zhì)、缺陷的深能級及界面態(tài),。通過對樣品的溫度掃描,,可以給出表征半導體禁帶范圍內(nèi)的雜質(zhì)、缺陷深能級及界面態(tài)隨溫度(即能量)分布的DLTS 譜,。
特點:
操作模式:
規(guī)格:
Options
Constant Capacitance
Optical Excitation
Fast Pulse Interface
±100 V Option
Multi Sample Interface
C-DLTS
CC-DLTS
I-DLTS
DD-DLTS
Zerbst-DLTS
O-DLTS
FET-Analysis
MOS-Analysis
ITS(等溫瞬態(tài)光譜儀)
缺陷分析
俘獲截面測量
I/V, I/V(T)理查森標繪圖
C/V, C/V(T)
TSC/TSCAP
PITS(光子誘導瞬態(tài)譜)
DLOS(特殊系統(tǒng))
自動接觸檢查
常規(guī)測試和加強軟件
自動電容補償
三終端FET電流瞬態(tài)測量
大電容和濃度范圍
靈活性高,、模塊化硬件
支持各種冷卻倉和溫度控制器
傅里葉轉(zhuǎn)換(F-DLTS),比例窗口和用戶自定義校正功能
DLTFS(深層瞬態(tài)傅里葉光譜儀)評價
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