全新一代磁學測量系統(tǒng)

2013 年 3 月makeway 公司在美國物理協(xié)會年會上，發(fā)布了全新設計的磁學測量系統(tǒng)：MPMS3系統(tǒng),。該系統(tǒng)仍舊基于SQUID探測技術,，但不是MPMS(SQUID)XL系列和SQUID-VSM系統(tǒng)的簡單升。MPMS3系統(tǒng)是makeway公司潛心開發(fā)多年的結晶,，在該產品上集成了大量的全新技術,。

對比于MPMS XL和SQUID-VSM磁學測量系統(tǒng)，MPMS3將二者的優(yōu)點進行了融合,。MPMS3系統(tǒng)外觀雖然與SQUID-VSM相似,，但系統(tǒng)進行了重新設計，同時具備了SQUID-VSM的高速高精度測量,，以及MPMS XL的DC測量模式、Raw Data功能和Point- to-Point測量功能,。系統(tǒng)帶有全新的DC Scan測量模式,，VSM測量模式以及交流測量模式可供用戶選擇，大程度的滿足用戶的測量要求,。MPMS XL用戶和SQUID-VSM用戶將會非常容易的上手使用MPMS3,。另外對于SQUID-VSM用戶，我們也提供了升方案,，用戶可將SQUID-VSM系統(tǒng)升至MPMS3系統(tǒng),。

MPMS3系統(tǒng)帶有的新式無液氦Evercool選件，可實現(xiàn)全氦氣啟動和運行,，擺脫對液氦的依賴,。

全新一代磁學測量系統(tǒng)

MPMS廣泛分布于世界上幾乎所有相關的前沿實驗室，在學術界具有良好口碑,。MPMS系統(tǒng)由一個基系統(tǒng)和各種拓展功能選件構成,。基系統(tǒng)同時提供變磁場測量環(huán)境和變溫度場測量環(huán)境,，拓展功能選件包括各種全自動磁學測量功能選件,，如AC磁化率測量系統(tǒng)選件（進行交流磁化率的測量，頻率0.1Hz - 1kHz,，磁矩靈敏度≤ 5×10-8 emu （typical））,、高溫爐選件（把儀器高可測量溫度拓展到1000K）、超低磁場選件以及磁場重置選件（用于退磁可獲取達0.005G的超低磁場）,。而且MPMS帶有液氦自循環(huán)系統(tǒng),，能夠全自動實現(xiàn)液氦的循環(huán)利用，地方便了獲取液氦不方便、或者液氦價格昂貴的地區(qū)用戶,。

所包含的領域有物理,、材料、化學,、生物,、地質等學科。所能研究測量的材料涵蓋金屬,、陶瓷,、半導體、超導體,、磁性材料,、合金材料、有機材料,、介電材料和高分子材料等等,。材料的形式可以是：塊材、薄膜,、粉末,、液體、單晶及納米材料,。

MPMS3全新技術

1) RapidTemp-快速溫控技術

系統(tǒng)從300K勻速降至10K僅需15分鐘,，從10K穩(wěn)定到1.8K也僅需5分鐘

2) QuickSwitch-超導開關技術

超導開關在超導態(tài)和正常態(tài)之間的轉換僅需要1秒鐘時間

3) FastLab-快速數(shù)據采集技術

系統(tǒng)的超導磁體允許700Oe/s的勵磁速度，在零場下僅需4秒數(shù)據平均時間(data average time),，系統(tǒng)便能達到1x10-8emu的測量精度,；并且系統(tǒng)允許用戶在掃場模式下進行高精度的測量。

5K溫度下鐵磁薄膜MH曲線

MPMS3 DCScan與MPMS XL對比

MPMS3系統(tǒng)參數(shù):

溫度區(qū)間：

1.9~400 K 連續(xù)控制

降溫速度：

30 K/min 300 K>T>10 K

10 K/min 10 K>T>1.8 K

樣品腔內徑：

9 mm

磁場強度：

±7 T

磁場均勻度：

4 cm 范圍內達到 0.01%

勵磁速度：

4 - 700 Oe/s

樣品振動范圍：

0.1-8 mm (峰值)

測量磁矩：

2 emu（DC Scan）,；

>100 emu（VSM）

測量靈敏度：

≤2500 Oe：

≤5×10-8 emu（DC scan）

≤1×10-8 emu（VSM）

>2500 Oe:

≤6×10-7 emu（DC scan）

≤8×10-8 emu（VSM）

MPMS選件

MPMS3 Evercool選件(氦氣啟動和運行,，無需液氦)介紹(點擊打開)

MPMS3 OVEN選件(可將測量溫區(qū)拓展1000K)介紹(點擊打開)

MPMS3 AC Susceptibility Measurement選件介紹(點擊打開)

MPMS3 Ultra-Low Field Capability (ULF)選件介紹(點擊打開)

MPMS3水平旋轉桿、磁光測量和電學測量選件介紹(點擊打開)

MPMS3 iQuantum He3選件(點擊打開)

MPMS測試數(shù)據

高溫直流,、交流磁化率測量數(shù)據

鎳材料高溫直流,、交流磁化率測量數(shù)據

磁化率測試數(shù)據

由哈維·穆德學院教授Professor Eckert提供的鐵磁薄膜在較弱磁場下的磁矩測量數(shù)據，展現(xiàn)了MPMS3對小磁矩樣品測量的精準性

磁化率DC模式測試數(shù)據

相對于MPMS XL而言,，MPMS3系統(tǒng)使用的DC測量模式的測量效率得到了質的飛躍,。

磁場掃場速率測試數(shù)據

相對于MPMS XL系統(tǒng)，MPMS3的掃場速率大幅提升,。

光磁測量選件測試數(shù)據

場冷（100Oe）和零場冷并使用DC模式測量的光磁數(shù)據,。

水平旋轉桿測量選件測試數(shù)據

鐵磁性薄膜材料±2T磁場下 0-90° 4個不同角度測量得到的MH曲線