RTP-200快速退火爐為德國優(yōu)尼坦公司生產(chǎn),，分為RTP-100, RTP-150, RSO-200,VPO-300共四個型號，分別對應(yīng)4英寸,、6英寸,、8英寸,、12英寸的真空快速退火爐產(chǎn)品。

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技術(shù)規(guī)格：

- 溫度：1200攝氏度,；

- 升溫速率：150攝氏度/秒,；

- 降溫速度：200攝氏度/分鐘 (1000攝氏度-->400攝氏度)；

- 溫控均勻性：≤ 1.5%設(shè)定溫度,；

- 加熱方式：紅外鹵素?zé)?，頂部及底部加熱?/p>

- 燈管數(shù)量及功率：18支/20千瓦(RTP-100)，24支/21千瓦(RTP-150),；

- 腔體冷卻：水冷方式,；

- 襯底冷卻：氮氣吹掃；

- 工藝氣路：MFC控制,，最多4路 (氮氣,、氬氣、氧氣,、氫氮混合氣等),；

- 主機尺寸及重量：505mm x 504mm x 420mm (W x D x H)，約55Kg,；

儀器特點：

- 真空快速退火爐,，有低真空型號(10-3 hPa)、高真空型號(10-6 hPa),；

- 可在不同氣氛環(huán)境下使用,，如惰性氣體、氧氣,、氫氮混合氣等,；

- 控制方式：SIMATIC, SPS人機界面控制，7英寸觸摸屏,；

- 可存儲50個程序,，每個程序最多分為50段控制；

- 全自動智能控制,，包括溫度,、時間、氣體流量,、真空度,、循環(huán)水均可自動設(shè)置；

- 優(yōu)異的溫控均勻性,，工藝重現(xiàn)性,；

- 小尺寸臺式設(shè)計；

應(yīng)用領(lǐng)域：

- 離子注入/接觸退火；

- 快速熱處理(RTP),，快速退火(RTA),，快速熱氧化(RTO)，快速熱氮化(RTN),；

- 可在真空,、惰性氣氛、氧氣,、氫氣,、混合氣等不同環(huán)境下使用；

- SiAu, SiAl, SiMo合金化,；

- 低介電材料,；

- 晶體化，致密化,；

- 太陽能電池片鍵合,；

等等...

參考客戶：

西安交通大學(xué)、西安電子科技大學(xué),、中國科技大學(xué),、江漢大學(xué)、中科院上海技術(shù)物理所,、中科院蘇州納米所,、北京航天儀器研究所、京東方,、武漢光迅,、能華微電子等。