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NE-550EX日本ULVAC愛發(fā)科高密度等離子刻蝕設(shè)備
| 參考價(jià): | 面議 |
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)- NE-550EX 產(chǎn)品型號
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訪問次數(shù)：221更新時(shí)間：2024-11-25 14:20:55
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產(chǎn)品簡介
| 價(jià)格區(qū)間 | 面議 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,化工,綜合 |
|---|
日本ULVAC愛發(fā)科高密度等離子刻蝕設(shè)備
產(chǎn)品介紹
日本ULVAC愛發(fā)科高密度等離子刻蝕設(shè)備
日本ULVAC愛發(fā)科高密度等離子刻蝕設(shè)備
高密度等離子刻蝕設(shè)備研發(fā)NE-550EX
研究開發(fā)的高密度等離子蝕刻系統(tǒng)NE-550EX是采用磁場ICP（ISM=感應(yīng)超級磁控管）方式的高密度等離子蝕刻系統(tǒng)，為單晶圓型,，標(biāo)配LL室。 ,，使其結(jié)構(gòu)緊湊且價(jià)格低廉,。
特征
與其他ICP方式相比，磁場輔助可在更低的壓力,、更低的電子溫度和更高的密度下產(chǎn)生等離子體,，并且可以進(jìn)行從離子蝕刻到自由基蝕刻的廣泛等離子體控制，因此作為開發(fā)工具適用于各種工藝,。
配備“星形電極",，防止沉積物粘附在射頻輸入窗口上。該設(shè)備還具有加熱功能,，其設(shè)計(jì)注重再現(xiàn)性和穩(wěn)定性,。
我們實(shí)現(xiàn)了作為研發(fā)工具的可靠性，例如高可靠性的運(yùn)輸機(jī)器人,、簡單的裝置結(jié)構(gòu)和易于維護(hù),。
豐富的可選功能,，可增設(shè)暗盒室,。
NE-5700和NE-7800可兼容同一個(gè)腔體配置的多個(gè)腔體，適用于大規(guī)模生產(chǎn)線。
目的
復(fù)合材料（LED,、LD,、高頻器件、功率器件）,。
電極,、金屬布線、有機(jī)薄膜,、陶瓷等加工
用于加工難以蝕刻的材料,，如鐵電體、貴金屬和磁性薄膜,。
納米壓印,、NEMS、MEMS,、各種傳感器,。
生物芯片、微流控器件,、光子晶體等
規(guī)格
| 物品 | 規(guī)格 |
| 系統(tǒng)配置 | 研發(fā)/樣機(jī)設(shè)備+裝載鎖室 |
| 板尺寸 | ～150毫米 |
| 工作壓力（Pa） | 0.07~6.7 |
| 面內(nèi)/面間均勻性 | 最大±3% |
| 基板溫度控制 | 靜電吸盤 |
