用途概述

ZDM系列真空鍍膜機化學名叫六甲基二硅胺烷（別名六甲基二硅氮烷）,，真空鍍膜機又稱HMDS基片預處理系統(tǒng)，喆圖真空鍍膜機對箱體內預處理過程的工作溫度,、工作壓力、處理時間,、處理時保持時間等參數(shù)的控制,，可以在硅片、襯底表面完成 HMDS成底膜的工藝,。降低了光刻膠的用量,，所有工藝都在密閉的環(huán)境中進行，沒有HMDS揮發(fā),，提高了安全性,。主要適用于硅片、砷化鎵,、陶瓷,、不銹鋼、鈮酸鋰,、玻璃,、藍寶石、晶圓等材料,，為基片在涂膠前改善表面活性,，增加光刻膠與基底的粘附力的設備，也可用于晶片其它工藝的清洗,，尤其在芯片研發(fā)和生產領域應用更加普及,。

產品特點

ZDM系列真空鍍膜機

v 采用PLC工控自動化系統(tǒng),，人機界面采用觸摸屏，可靠性高,，操作智能方便,；

v PLC控制系統(tǒng)具有自動控溫、任意定時,、超溫報警等,彩色觸摸屏顯示,控溫準確可靠,；

v 智能化觸摸屏控制系統(tǒng)，可根據不同制程條件改變程序,、溫度,、真空度及每一程序時間；

v 采用鋼化玻璃觀察窗,，監(jiān)測方便,，一體成型的硅橡膠門封，確保箱內密封性好,；

v 外殼和加熱管均采用不銹鋼材質,，內膽不銹鋼，無易燃易爆裝置,，無發(fā)塵材料,；

v 以蒸汽的形式涂布到晶片表面，液態(tài)涂布均勻,，可一次處理4盒以上的晶片,，節(jié)省藥液。

v 去水烘烤和增粘（疏水）處理一機完成無需轉移,，有效規(guī)避HMDS泄露的風險,；

v HMDS氣體密閉式自動吸取添加設計，使真空箱密封性好,，確保HMDS氣體不外漏,；

v 多余的HMDS蒸汽（尾氣）由真空泵抽出，排放到專用廢氣收集管道,，確保安全以及環(huán)保,。

HMDS預處理系統(tǒng)的必要性

將HMDS涂到晶片表面后，經真空鍍膜機加溫后可反應生成以硅氧烷為主體的化合物,，

它可將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?，起著耦合作用，可更好與光刻膠結合,，保證涂膠工藝不影

響光刻效果和顯影,。

HMDS本身是表面改性，不會涂在圓片表面,，HMDS上面涂膠不影響HMDS的處理效果,。

HMDS處理后需要冷卻后涂膠,，建議4小時內完成涂膠。

HMDS真空鍍膜機預處理程序

HMDS(六甲基二硅胺)是黃光區(qū)最毒的東西,，真空鍍膜機預處理程序為：打開真空泵抽真空,，待腔內真空度達到某一高真空度后，開始充入氮氣,，充到一定低真空度后,，再次進行抽真空、充入氮氣的過程,，到達設定的充入氮氣次數(shù)后,，開始保持一段時間，使硅片充分受熱,，減少硅片表面的水分,。然后再次開始抽真空，充入通過氮氣的HMDS氣體,，在到達設定時間后,，停止充入HMDS藥液，進入保持階段,，使硅片充分與HMDS反應,。當達到設定的保持時間后，再次開始抽真空,。

充入氮氣,，完成整個作業(yè)過程。

技術參數(shù)：