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刻蝕,，是指用化學(xué)或物理方法有選擇地從硅片表面去除不需要的材料的過程?？涛g的基本目的,，是在涂膠(或有掩膜)的硅片上正確的復(fù)制出掩膜圖形。
刻蝕,，通常是在光刻工藝之后進(jìn)行,。我們通常通過刻蝕，在光刻工藝之后,，將想要的圖形留在硅片上,。從這一角度而言，刻蝕可以被稱之為最終的和最主要的圖形轉(zhuǎn)移工藝步驟,。在通常的刻蝕過程中,，有圖形的光刻膠層〔或掩膜層)將不受到腐蝕源顯著的侵蝕或刻蝕，可作為掩蔽膜,，保護(hù)硅片上的部分特殊區(qū)域,，而未被光刻膠保護(hù)的區(qū)域，則被選擇性的刻蝕掉,。
