GMD2000多糖核酸高剪切研磨均質(zhì)機采用了二級處理結(jié)構(gòu),，*級采用了高剪切膠體磨的磨頭模塊,，第二季采用了高剪切分散乳化機的分散乳化模塊，第二級模塊可根據(jù)客戶對物料的處理要求開配定轉(zhuǎn)子,，定轉(zhuǎn)子可配2P,、2G、4M,、6F,、8SF，且定轉(zhuǎn)子精密度都達到了較較較較較較良好水平,。公司有樣機可供客戶實驗,，歡迎廣大新老客戶來我司參觀指導！

 GMD2000多糖核酸高剪切研磨均質(zhì)機是 SGN（上海）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品,，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料,。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝，我們 將三級變跟為一級,，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料，然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì),。磨頭下面的膠體磨可根據(jù)物 料要求進行更換（我們提供了2P,，2G，4M,，6F,，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）。

工作原理：研磨分散機是由電動機通過皮帶傳動帶動轉(zhuǎn)齒（或稱為轉(zhuǎn)子）與相配的定齒（或稱為定子）作相對的高速旋轉(zhuǎn),，被加工物料通過本身的重量或外 部壓力（可由泵產(chǎn)生）加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力,，透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時受到強大的剪切力,、摩擦力,、高頻振動等物理作用，使物料被有 效地乳化,、分散和粉碎,，達到物料超細粉碎及乳化的效果。

研磨分散機的細化作用一般來說要強于均質(zhì)機,，但它對物料的適應能力較強（如高粘度,、大顆粒）,，所以在很多場合下，它用于均質(zhì)機的前道或者用于高粘度的場合,。

是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品,。

    *級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離,。在增強的流體湍流下,，凹槽在每級都可以改變方向。

    第二級由轉(zhuǎn)定子組成,。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要,。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因 為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度,、中等精度,、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別 是不同工作頭的幾何學特征不一樣,。狹槽數(shù),、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,，依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來 滿足一個具體的應用,。在大多數(shù)情況下，機器的構(gòu)造是和具體應用相匹配的,，因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要,。當不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預期的應用。

    GMD2000系列的線速度很高,，剪切間隙非常小,，這樣當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈,，結(jié)果就是通常所說的濕磨,。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精 細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽,。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離,。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向,。高質(zhì)量的表面拋光和 結(jié)構(gòu)材料,，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

設(shè)備等級：化工級,、衛(wèi)生S級,、衛(wèi)生SS級、無菌級
電機形式：普通馬達,、變頻調(diào)速馬達,、防爆馬達,、變頻防爆馬達、
電源選擇： 380V/50HZ,、220V/60HZ,、440V/50HZ
電機選配件： PTG 熱保護、降噪型
研磨分散機材質(zhì)：SUS304 ,、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機選配：儲液罐,、排污閥,、變頻器、電控箱,、移動小車
研磨分散機表面處理：拋光,、耐磨處理
進出口聯(lián)結(jié)形式：法蘭、螺口,、夾箍
研磨分散機選配容器：本設(shè)備適合于各種不同大小的容器