蔡司ZEISS 聚焦離子束電鏡Crossbeam系列詳細說明：

蔡司ZEISS 聚焦離子束電鏡Crossbeam系列探索全新的 FIB 加工方法--從大尺寸到納米精度切割：

充分利用 lon-sculptor FIB 鏡筒在低電壓下的出色性能來提升樣品質量,。降低精密樣品的非晶化程度，可在減薄拋光后獲得出色的樣品效果,，同時具有快速切換束流的優(yōu)勢,，加速 FIB 的應用,。

您也可以選擇出色的大束流性能，使 FIB-SEM 3D 應用的采集速度提高一倍,。圖像采集的過程十分穩(wěn)定確保您獲得準確且高度可重復的結果,。鏡筒設計使其束流范圍橫跨五個數(shù)量級，即從1pA 到 100 nA,。高達 100 nA 的束流能快速準確地移除材料,，并完成切割流程同時，低束流下可獲得小于3nm 的高 FIB分辨率,。在2 μA 的發(fā)射電流下工作時,，鎵聚焦離子束源，即 LMIS(液態(tài)金屬離子源)的常規(guī)使用壽命高于 3000 uAh,。通過自動離子源加熱功能,，Crossbeam 系列產品能夠完成超長持續(xù)時間的實驗。