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愛安德介紹什么是CMP設(shè)備,？

時間：2024/8/30閱讀：425
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愛安德介紹什么是CMP設(shè)備？

CMP設(shè)備是對硅片進行拋光的設(shè)備,。 CMP 代表化學(xué)機械拋光,。半導(dǎo)體的制造規(guī)模非常小，因此需要均勻且高精度的拋光,，此外,，它們具有許多不同硬度的層，每層都需要使用適當(dāng)?shù)膲毫Α?/span>磨料

CMP設(shè)備主要用于半導(dǎo)體制造工藝,。它用于半導(dǎo)體工藝中,，以平整因蝕刻、氧化膜生成,、離子擴散等引起的表面凹凸,。 CMP 提供非常精確的平坦化，并有利于在平坦化表面上進一步分層,。選擇CMP設(shè)備時,，需要考慮平坦化的精度、所使用的化學(xué)品和化學(xué)品以及硅片的加工速度,。

我們將解釋CMP設(shè)備的工作原理,。 CMP設(shè)備通常一次高速加工許多硅片，因此通常是大型設(shè)備,。其組成部分包括旋轉(zhuǎn)臺,、施加化學(xué)物質(zhì)的噴嘴和砂紙拋光部分等。此外,，還有用于傳送硅片的機器人,、拋光后的清潔部分和檢測部分等。

基本操作是從噴嘴將化學(xué)溶液或化學(xué)品噴射到硅片上,，將砂紙等壓在硅片上,，并通過高速旋轉(zhuǎn)旋轉(zhuǎn)臺進行拋光?；瘜W(xué)拋光目標(biāo)包括氧化膜、鎢布線和銅布線,。在氧化膜的情況下,，將氧化膜溶解在堿性溶液中并用相同組成的氧化硅進行拋光。對于鎢布線來說,，鎢表面經(jīng)過氧化,，表面用氧化硅拋光,。對于銅布線，將銅氧化后,，制成復(fù)合物,，并用氧化硅進行拋光。


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