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HWN-P1500納米激光直寫系統(tǒng)?是專門為科研團隊和加工平臺設計的小范圍多功能光刻系統(tǒng)，根據(jù)壓電平臺的移動范圍,，分為P100,、P200、P500,、P1000,、P1500等不同型號，具有結(jié)構(gòu)緊湊,、操作方便,、維護簡單、加工分辨率高,、支持多種受體材料等特征,，能廣泛適用于各種微納結(jié)構(gòu)及器件制造、材料工藝探素和小規(guī)模生產(chǎn),。該系列產(chǎn)品還可根據(jù)用戶特殊需求,，提供定制設計和制造。

新概念技術(shù)：華維納HWN-P1500納米激光直寫系統(tǒng)通過激光與材料的非線性相互作用,，成功突破了光學衍射極限的限制,，實現(xiàn)了納米尺度的加工分辨力，最小的孔洞直徑可達50nm,。

多受體材料：華維納LDW-P系列通過高精度的功率調(diào)制（＜1‰），可兼容包括金屬薄膜,、無機相變材料,、光刻膠等多種受體材料。

可靠易用性：華維納HWN-P擁有強大的軟件功能,，支持標量刻寫,、矢量刻寫等多種刻寫模式，供用戶根據(jù)不同的刻寫場景而選擇,。另外,，LDW-P系列還支持樣品刻寫后的在線分析，使用戶一站式完成設計,、刻寫,、分析等步驟,， 大大提高了工作效率。