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目錄:山東霍爾德電子科技有限公司>>實驗室設備>>游離二氧化硅前處理儀>> HD-Si12游離二氧化硅前處理儀

游離二氧化硅前處理儀
  • 游離二氧化硅前處理儀
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參考價 面議
具體成交價以合同協(xié)議為準
參考價 面議
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 品牌 霍爾德?電子
  • 型號 HD-Si12
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)商
  • 所在地 濰坊市
屬性

產(chǎn)地類別:國產(chǎn) 應用領(lǐng)域:環(huán)保

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更新時間:2025-02-08 11:00:41瀏覽次數(shù):320評價

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產(chǎn)地類別 國產(chǎn) 應用領(lǐng)域 環(huán)保
游離二氧化硅前處理儀依據(jù)國家職業(yè)衛(wèi)生標準《GBZ/T 192.4-2007工作場所空氣中粉塵測定 第4部分:游離二氧化硅含量》中規(guī)定的前處理步驟,自動完成添加焦磷酸,、自動加熱攪拌,、自動升溫、15分鐘消解過程準確控溫在245℃-250℃,、自動降溫,、自動注水、自動復溫,、自動過濾,、自動清洗等功能,整個過程無需人員值守,,實現(xiàn)了游離二氧化硅分離前處理的自動化,。

一、儀器功能要求

游離二氧化硅前處理儀依據(jù)國家職業(yè)衛(wèi)生標準《GBZ/T 192.4-2007工作場所空氣中粉塵測定 第4部分:游離二氧化硅含量》中規(guī)定的前處理步驟,,自動完成添加焦磷酸,、自動加熱攪拌、自動升溫,、15分鐘消解過程準確控溫在245℃-250℃,、自動降溫、自動注水,、自動復溫,、自動過濾、自動清洗等功能,,整個過程無需人員值守,,實現(xiàn)了游離二氧化硅分離前處理的自動化。

二,、游離二氧化硅前處理儀的主要技術(shù)參數(shù):

*2.1全自動一體機,,自動完成加焦磷酸,、消解、降溫,、過濾,、清洗等實驗步驟,滿足國標要求,,保證數(shù)據(jù)準確性,。

*2.2儀器具有加水后復溫功能,過濾過程中,,可對液體實時混勻,,混勻速度可調(diào)。

*2.3配備≥12個樣本位,,≥12個過濾位,。特制玻璃樣品杯,保障樣品快速均勻加熱,,特制過濾裝置,,耐酸堿耐高溫,實現(xiàn)快速過濾,。樣本可連續(xù)上機,,實現(xiàn)不停機做樣。

2.4運行過程中無需轉(zhuǎn)移樣品,,減少樣品在不同器皿之間轉(zhuǎn)移過程中的損失,。

2.5儀器可以自動添加焦磷酸至樣品中,無需手工添加,。

2.6儀器具有自動降溫功能,,消解后樣品架離開加熱位,完成快速降溫,。

2.7自動控溫加熱,,10min內(nèi)液體升溫至245℃,15分鐘保持在245℃-250℃。

*2.8采用雙感溫控探頭,,實時監(jiān)控液體溫度,,控溫精度±0.1℃。

2.9儀器采用一體恒溫加熱模組,,各加熱位溫度均勻一致。

2.10儀器采用耐酸堿高精度計量泵,,加液精度<1%,。

2.11特制攪拌棒,攪拌測溫一體設計,,攪拌速度可調(diào)節(jié),,保證樣品攪拌均勻,。

2.12具有磷酸制備焦磷酸功能,可自動加磷酸,,在線制備焦磷酸,。

*2.13采用負壓過濾系統(tǒng),兩個樣品可同時過濾,,滴液速度和負壓大小均可調(diào)節(jié),,快速安全。

2.14儀器內(nèi)置調(diào)試軟件,,自動校準加液精度,。

2.15儀器自動使用0.1mol/L鹽酸和高溫純化水沖洗樣品杯和殘渣,用戶還可根據(jù)需要選擇清洗次數(shù)和清洗量,,足量清洗,,提高結(jié)果準確性。

*2.16采用噴頭噴淋清洗樣品杯,,保證清洗無殘留,。

2.17儀器具有排風裝置,可自動對接排風管道,,也可置于通風櫥內(nèi)使用,。

2.18儀器具有試劑液量消耗監(jiān)控,低于預警值能夠?qū)崿F(xiàn)人性化提醒,,確保實驗有效進行,。

2.19儀器內(nèi)置觸摸屏電腦,軟件自動控制,,直接編輯輸入信息,,無需人工干預。

2.20實驗過程全流程可視,,軟件可直觀顯示當前實驗狀態(tài)和進度,。

2.21實驗過程中溫度實時顯示,并自動記錄消解攪拌時間,。

2.22安全性保護:儀器具有消解加熱過溫保護,,整機設備(空氣開關(guān))漏電過流保護。

2.23儀器自動記錄實驗各環(huán)節(jié)過程參數(shù),,形成實驗過程記錄,,并可支持數(shù)據(jù)打印,導出,,數(shù)據(jù)儲存量≥10000 組,。

2.24 儀器支持U盤升級,也可選配遠程升級功能,,簡化設備固件升級流程,,一鍵升級,。

游離二氧化硅前處理儀


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