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聲光偏轉(zhuǎn)器(AODF)

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更新時(shí)間:2025-01-08 10:27:44瀏覽次數(shù):965

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聲光偏轉(zhuǎn)器(AODF)
二維UV光束掃描可通過(guò)串聯(lián)兩個(gè)UV偏轉(zhuǎn)器來(lái)實(shí)現(xiàn),。我們具有相位同步輸出功能的靈活功能AODF雙驅(qū)動(dòng)器為2D掃描提供了RF驅(qū)動(dòng)器控制,。

詳細(xì)介紹

聲光偏轉(zhuǎn)器(AODF)

 

                                                          —Gooch&Housego 公司

     

       G&H聲光偏轉(zhuǎn)器(AODF)可以對(duì)光束進(jìn)行精確的空間控制,,無(wú)論是進(jìn)行1維或2維掃描,,還是通過(guò)固定的角度進(jìn)行光束偏轉(zhuǎn)。我們的聲光偏轉(zhuǎn)器在全掃描角度上提供高度均勻的衍射效率,,并為材料處理和數(shù)字成像等掃描應(yīng)用提供一致的功率吞吐量,。

       在AO偏轉(zhuǎn)器中,RF聲波通過(guò)晶體時(shí)會(huì)衍射光,。因此,,通過(guò)保持聲波的功率恒定并改變其頻率,可以改變或掃描輸出衍射束的角度,。衍射角的總可能范圍很小,,通常不超過(guò)幾度,從而可以在該角度范圍內(nèi)分辨出幾百個(gè)至最多約兩千個(gè)點(diǎn)(或1 / e強(qiáng)度級(jí)別與光束直徑重疊),。掃描時(shí)間可能快至幾微秒,??煞直婀獍叩目倲?shù)由聲波在AO晶體中穿過(guò)光束所需的時(shí)間(為訪問(wèn)時(shí)間)和工作頻率帶寬定義。 G&H提供多種標(biāo)準(zhǔn)偏轉(zhuǎn)器和RF驅(qū)動(dòng)器,,適用于266-1500 nm的波長(zhǎng),。

 

       選擇正確的RF驅(qū)動(dòng)器對(duì)于實(shí)現(xiàn)所需的掃描速度和精度很重要。掃描或?qū)懭霊?yīng)用中使用的偏轉(zhuǎn)器需要穩(wěn)定且高度線性的可變頻率源,。

       二維UV光束掃描可通過(guò)串聯(lián)兩個(gè)UV偏轉(zhuǎn)器來(lái)實(shí)現(xiàn),。我們具有相位同步輸出功能的靈活功能AODF雙驅(qū)動(dòng)器為2D掃描提供了RF驅(qū)動(dòng)器控制。

       衡量偏轉(zhuǎn)器的主要參數(shù)有:1.偏轉(zhuǎn)的角度范圍,;2.分辨率,。偏轉(zhuǎn)的角度范圍是激光束的可變角度,它取決于器件的頻率范圍,。

       G&H公司可以為批量的OEM應(yīng)用提供定制化的AOD解決方案或者高速的多通道聲光偏轉(zhuǎn)器(multi-channel deflectors),。

 

產(chǎn)品參數(shù)特點(diǎn):

  • 波長(zhǎng)范圍:266nm 到 1550nm

  • 驅(qū)動(dòng)頻率:55MHz 到 432MHz

  • 掃描角度:最高可達(dá)60mrad

 

產(chǎn)品型號(hào):

產(chǎn)品型號(hào)偏轉(zhuǎn)模式工作波長(zhǎng)

射頻頻率

(MHz)

通光孔徑

(mm)

衍射效率

掃描角度

(mrad)

4070Longitudinal9.4um50-90直徑:980%60
4200-UVLongitudina266nm135-2651*6080%5.5
4170Longitudina355nm130-2107*2080%4.9
4100-UVShear, on Axis364nm75-1254*1480%29.5
4200-VIShear, on Axis405-488nm150-250直徑:4.870%58
4090-7Shear, on Axis440-532nm60-115直徑:8.570%44
4100-VISlow Shear488nm75-1254*1470%39.5
4085Slow Shear750-1064nm55-1103.5*1470%42.5
4055-4Shear, on Axis780-980nm35-703.5*1480%44.3
4200-IRLongitudina830nm140-2802*635%27.6
4075-IRLongitudina1065-1100nm59-91直徑:2.570%8.1

 

應(yīng)用領(lǐng)域:

 

數(shù)字成像,外差干涉測(cè)量,,激光冷卻,,激光打標(biāo),光鑷,,材料加工,,微機(jī)械加工,顯微鏡,,在線過(guò)程控制,,光學(xué)檢查,光刻,,印刷

 

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