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　　場發(fā)射掃描電子顯微鏡具有超高分辨率,，具有高性能X射線能譜儀,，能同時進行樣品表層的微區(qū)點線面元素的定性、半定量及定量分析,，具有形貌,、化學組分綜合分析能力，能做各種固態(tài)樣品表面形貌的二次電子象,、反射電子象觀察及圖像處理,。
 

　　場發(fā)射掃描電子顯微鏡的工作原理：
 

　　場發(fā)射掃描電子顯微鏡的原理是利用二次電子或背散射電子成像，對樣品表面放大一定的倍數(shù)進行形貌觀察,，同時利用電子激發(fā)出樣品表面的特征X射線來對微區(qū)的成分進行定性定量分析,，是材料研究分析中一雙亮麗的“眼睛”。
 

　　場發(fā)射掃描電子顯微鏡的主要優(yōu)點：
 

　　1、有較高的放大倍數(shù),，20-30萬倍之間連續(xù)可調(diào),；
 

　　2、有很大的景深,，視野大,，成像富有立體感，可直接觀察各種試樣凹凸不平表面的細微結構,；
 

　　3,、試樣制備簡單，目前的掃描電鏡都配有X射線能譜儀(EDS)裝置,，這樣可以同時進行顯微組織形貌的觀察和微區(qū)成分分析,。
 

　　場發(fā)射掃描電子顯微鏡適用于對金屬、陶瓷,、半導體,、礦物、生物,、高分子,、復合材料和納米級一維、二維和三維材料的表面形貌進行觀察(二次電子像,、背散射電子像),；可進行微區(qū)的點、線,、面成分分析,；元素在形貌上成象；晶體材料的晶體取向及微區(qū)取向分析,、結構分析,、正反極圖、歐拉空間分析等,；圖象定量分析,。