1 產(chǎn)品概述:
卷繞式濺射設(shè)備,，也稱為卷繞磁控濺射鍍膜機,，是一種在真空環(huán)境下,，利用磁控濺射技術(shù)將金屬、合金,、化合物或陶瓷等材料沉積到連續(xù)卷繞的柔性基材（如塑料薄膜,、金屬帶等）上的先進鍍膜設(shè)備。該設(shè)備主要由濺射室,、卷繞系統(tǒng),、磁控靶及電源、樣品加熱系統(tǒng),、樣品退火系統(tǒng),、泵抽系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng),、電控系統(tǒng),、氣路系統(tǒng)等組成。在濺射過程中,，通過高能粒子轟擊靶材表面,，使靶材原子或分子被濺射出來并沉積在基材上，形成所需的薄膜層,。
2 設(shè)備用途：
卷繞式濺射設(shè)備具有廣泛的應(yīng)用領(lǐng)域,，主要包括但不限于以下幾個方面：
柔性電子：用于在柔性基材上鍍制各種介質(zhì)膜、導(dǎo)電膜等,，如ITO透明導(dǎo)電膜,，廣泛應(yīng)用于柔性線路板、柔性顯示器件等領(lǐng)域,。
太陽能電池：在金屬帶上鍍制光學(xué)多層膜,，用于制作薄膜太陽能電池，提高光電轉(zhuǎn)換效率,。
包裝與防偽：在包裝材料上鍍制防偽膜層,，提高產(chǎn)品的防偽性能和美觀度。
電容器：在電容器電極上鍍制金屬薄膜,，提高電容器的性能,。
3 設(shè)備特點
卷繞式濺射設(shè)備具有以下幾個顯著特點：
高效連續(xù)生產(chǎn)：設(shè)備采用連續(xù)卷繞的方式,，實現(xiàn)了對柔性基材的連續(xù)鍍膜處理，大大提高了生產(chǎn)效率,。
鍍膜質(zhì)量高：磁控濺射技術(shù)具有鍍膜溫度低,、膜層厚度可控、細膩,、均勻,、附著牢固等優(yōu)點，能夠制備出高質(zhì)量的薄膜層,。
鍍膜材料范圍廣：可適用于多種材料的鍍膜處理,，包括金屬、合金,、化合物和陶瓷等,。
4 技術(shù)參數(shù)和特點：
可根據(jù)工藝或生產(chǎn)性選擇各種模組。
通過任意,、追加選擇模組,，可實現(xiàn)各種用途。
在地面高度可以進行設(shè)備操作,。
優(yōu)秀的氛圍分隔性能和成膜工藝的改善,，使高速率生產(chǎn)高品位的薄膜成為可能。
觸摸屏用配線膜,、透明導(dǎo)電膜以及透明薄膜等,。
FPC用電膜
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