1. 產(chǎn)品概述
iTops PVD ITO 濺射系統(tǒng),加熱能力,、精確的溫度控制、優(yōu)異的真空能力,。
2. 設(shè)備用途/原理
iTops PVD ITO 濺射系統(tǒng),，加熱能力、精確的溫度控制,、優(yōu)異的真空能力,，高晶體質(zhì)量的氮化鋁薄膜及優(yōu)異的薄膜厚度均勻性，占地面積小,，結(jié)構(gòu)簡單,，操作靈活，維修方便,，設(shè)備穩(wěn)定,，稼動(dòng)率高，運(yùn)營成本低,。
3. 設(shè)備特點(diǎn)
晶圓尺寸 2/4/6 英寸兼容,。適用材料 氮化鋁。適用工藝 氮化鋁緩沖層濺射,。適用域 化合物半導(dǎo)體,。百科：?半導(dǎo)體濺射系統(tǒng)的原理主要是利用高能離子撞擊靶材，使靶材的原子或分子從表面逸出,，并沉積在半導(dǎo)體基片上,，形成一層薄膜。濺射技術(shù)可以分為多種類型,，包括直流濺射,、交流濺射、反應(yīng)濺射和磁控濺射等,，不同類型的濺射技術(shù)適用于不同的應(yīng)用場景,。例如,，直流濺射適用于導(dǎo)電材料的鍍膜，而交流濺射則適用于導(dǎo)電性較差的材料,。反應(yīng)濺射可以在濺射過程中引入反應(yīng)氣體,，以形成特定的化合物薄膜。磁控濺射則通過加入磁場來控制電子的運(yùn)動(dòng)路徑,，提高濺射效率和薄膜質(zhì)量,。
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