目錄:沈陽科晶自動化設備有限公司>>真空鍍膜機>>鈣鈦礦鍍膜機>> 鈣鈦礦鍍膜機
| 產地類別 | 國產 | 價格區(qū)間 | 1-5萬 |
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鈣鈦礦鍍膜機主要由有機/金屬源蒸發(fā)沉積室,、真空排氣系統(tǒng),、真空測量系統(tǒng)、蒸發(fā)源,、樣品加熱控溫、電控系統(tǒng),、配氣系統(tǒng)等部分組成。適用于制備金屬單質薄膜,、半導體薄膜,、氧化物薄膜,、有機薄膜等,，可用于科研單位進行新材料,、新工藝薄膜研究工作,，也可用于大批量生產前的試驗工作,，廣泛應用于有機,、無機,、鈣鈦礦薄膜太陽能電池,、OLED等研究領域,。鈣鈦礦鍍膜機工作過程中樣品位于真空室上方,，蒸發(fā)源位于真空室下方,，向上蒸發(fā)鍍膜,，且蒸發(fā)源帶有擋板裝置,，防止蒸發(fā)源被污染,。
| 產品名稱 | 鈣鈦礦鍍膜機 |
| 主要特點 | 1,、樣品位于真空室上方,，蒸發(fā)源位于真空室下方,，向上蒸發(fā)鍍膜,，且蒸發(fā)源帶有擋板裝置,。 2,、設有烘烤加熱功能,，可在鍍膜過程中加熱樣品，烘烤加熱溫度可達180℃,。 3,、設有斷水、斷電連鎖保護報警裝置及防誤操作保護報警裝置。 |
| 技術參數 | 1,、鍍膜室：不銹鋼材料,，采用方形前后開門結構，內帶有防污板,，腔室尺寸約為600mm× 450mm×450mm 2,、真空排氣系統(tǒng)：采用分子泵+機械泵系統(tǒng) 3、真空度：鍍膜室極限真空≤6×10-4Pa 4,、系統(tǒng)漏率：≤1×10-7Pa 5,、蒸發(fā)源：安裝在真空室的下底上；有機蒸發(fā)源4個,、容積5ml,，2臺蒸發(fā)電源，可測溫,、 控溫,，加熱溫度400℃，功率0.5KW,；無機蒸發(fā)源4套,、容積5ml，2臺蒸發(fā)電 源,，加熱電流300A,，功率3.2KW；蒸發(fā)源擋板采用自動磁力控制方式控制其開 啟 6,、樣品架：安裝在真空室的上蓋上，可放置Ø120mm的樣品,、載玻片,，旋轉速度0-30rpm 7、加熱溫度：RT-180℃,，測溫,、控溫 8、膜厚控制儀：石英晶振膜厚控制儀,，膜厚測量范圍0-999999Å |
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