真空等離子表面處理系統(tǒng)優(yōu)點：

1.環(huán)保技術：等離子體作用過程是氣- 固相干式反應,不消耗水資源,、無需添加化學藥劑,對環(huán)境無污染,。

2.廣適性：不分處理對象的基材類型,均可進行處理,如金屬、半導體,、氧化物和大多數(shù)高分子材料都能很好地處理,。

3.溫度低：接近常溫，特別適于高分子材料,，比電暈和火焰方法有較長保存時間和較高表面張力,。

4.功能強：僅涉及高分子材料淺表面（10 -1000 埃），可在保持材料自身特性的同時,，賦予其一種或多種新的功能,；

5.低成本：裝置簡單，易操作維修,，可連續(xù)運行,，往往幾瓶氣體就可以代替數(shù)千公斤清洗液,因此清洗成本會大大低于濕法清洗,。

6. 全過程可控工藝：所有參數(shù)可由電腦設置和數(shù)據(jù)記錄，進行工藝質(zhì)量控制,。

7. 處理物幾何形狀無限制：大或小,，簡單或復雜，部件或紡織品,，均可處理,。

【技術參數(shù)】

1、設備外形尺寸: 450mm*400mm*260mm

2,、真空倉體尺寸: Φ151×285(L)mm （5L）

3,、倉體結構: 不銹鋼腔體，內(nèi)置容性耦合電極,，無污染,，內(nèi)置石英托盤。

4,、等離子發(fā)生器: 頻率40KHZ,，功率0-300W 調(diào)節(jié)，全電路保護,，連續(xù)長時間工作（風冷）,。

5、控制系統(tǒng):PLC 觸摸屏全自動控制,，采用歐姆龍,、施耐德等進口品牌電器元件,有手動、自動兩種控制模式,，真彩臺達觸摸屏,，西門子可編程控制器（PLC），美國產(chǎn)真空壓力傳感系統(tǒng),，可在線設定,、修改、監(jiān)控真空壓力,、處理時間,、等離子功率等工藝參數(shù)，并具有故障報警,、工藝存儲等多種功能,。在自動模式下設置各項工藝參數(shù)，即可一鍵啟動,，連續(xù)重復運行,。手動模式用于實驗工藝以及設備維護維修。

【工藝流程】

1,、處理工藝流程

裝入工件→抽真空→沖入反應氣體→等離子放電處理→回沖氣體→取出工件

2,、工藝控制：

2.1 處理時間控制： 1 秒～120 分鐘連續(xù)可調(diào),。

2.2 等離子放電壓力：絕對壓力為98Kpa～真空泵最高能力（相對壓力為30～80Pa）

2.3 功率設定范圍：0～300W 連續(xù)可調(diào)

2.4 流量設定范圍： 氣體1（0～60ml/min） 氣體2（0～160ml/min）

3、PLC 軟件功能（操控界面）

3.1 主畫面：實時監(jiān)視并顯示運行狀態(tài)及數(shù)據(jù),，等離子電源功率,、氣體流量、閥門開

關,、真空壓力,、運行時間等。

3.2 參數(shù)設置：可設定,、修改工藝參數(shù)及步驟

3.3 工作狀態(tài)：可在線查看真空壓力,、等離子功率等數(shù)據(jù)及狀態(tài)

3.4 故障報警：多種故障檢測、報警及互鎖保護

【場地要求】

電源：兩相三線,，獨立接地,，接地電阻≤2Ω。應使用截面積3mm2 以上的接地線將設備接至PE,。

真空泵排放氣管：軟管,，管徑（內(nèi)徑）建議將排氣管接至室外

場地溫度：≤40℃

相對濕度：RH（35-85）%