真空等離子表面處理系統(tǒng)優(yōu)點：

1.環(huán)保技術(shù)：等離子體作用過程是氣- 固相干式反應(yīng),不消耗水資源,、無需添加化學(xué)藥劑,對環(huán)境無污染。

2.廣適性：不分處理對象的基材類型,均可進行處理,如金屬,、半導(dǎo)體,、氧化物和大多數(shù)高分子材料都能很好地處理。

3.溫度低：接近常溫,，特別適于高分子材料,，比電暈和火焰方法有較長保存時間和較高表面張力。

4.功能強：僅涉及高分子材料淺表面（10 -1000 埃）,，可在保持材料自身特性的同時,，賦予其一種或多種新的功能；

5.低成本：裝置簡單,，易操作維修,，可連續(xù)運行，往往幾瓶氣體就可以代替數(shù)千公斤清洗液,因此清洗成本會大大低于濕法清洗,。

6. 全過程可控工藝：所有參數(shù)可由電腦設(shè)置和數(shù)據(jù)記錄,，進行工藝質(zhì)量控制。

7. 處理物幾何形狀無限制：大或小,，簡單或復(fù)雜,，部件或紡織品，均可處理,。

【技術(shù)參數(shù)】

1,、設(shè)備外形尺寸: 450mm*400mm*260mm

2、真空倉體尺寸: Φ151×285(L)mm （5L）

3,、倉體結(jié)構(gòu): 不銹鋼腔體,，內(nèi)置容性耦合電極，無污染,，內(nèi)置石英托盤,。

4,、等離子發(fā)生器: 頻率40KHZ，功率0-300W 調(diào)節(jié),，全電路保護,，連續(xù)長時間工作（風(fēng)冷）。

5,、控制系統(tǒng):PLC 觸摸屏全自動控制,，采用歐姆龍、施耐德等進口品牌電器元件,有手動,、自動兩種控制模式,，真彩臺達觸摸屏，西門子可編程控制器（PLC）,，美國產(chǎn)真空壓力傳感系統(tǒng),，可在線設(shè)定、修改,、監(jiān)控真空壓力,、處理時間、等離子功率等工藝參數(shù),，并具有故障報警,、工藝存儲等多種功能。在自動模式下設(shè)置各項工藝參數(shù),，即可一鍵啟動,，連續(xù)重復(fù)運行。手動模式用于實驗工藝以及設(shè)備維護維修,。

【工藝流程】

1,、處理工藝流程

裝入工件→抽真空→沖入反應(yīng)氣體→等離子放電處理→回沖氣體→取出工件

2、工藝控制：

2.1 處理時間控制： 1 秒～120 分鐘連續(xù)可調(diào),。

2.2 等離子放電壓力：絕對壓力為98Kpa～真空泵最高能力（相對壓力為30～80Pa）

2.3 功率設(shè)定范圍：0～300W 連續(xù)可調(diào)

2.4 流量設(shè)定范圍： 氣體1（0～60ml/min） 氣體2（0～160ml/min）

3,、PLC 軟件功能（操控界面）

3.1 主畫面：實時監(jiān)視并顯示運行狀態(tài)及數(shù)據(jù)，等離子電源功率,、氣體流量,、閥門開

關(guān)、真空壓力,、運行時間等,。

3.2 參數(shù)設(shè)置：可設(shè)定、修改工藝參數(shù)及步驟

3.3 工作狀態(tài)：可在線查看真空壓力,、等離子功率等數(shù)據(jù)及狀態(tài)

3.4 故障報警：多種故障檢測,、報警及互鎖保護

【場地要求】

電源：兩相三線，獨立接地,，接地電阻≤2Ω,。應(yīng)使用截面積3mm2 以上的接地線將設(shè)備接至PE,。

真空泵排放氣管：軟管，管徑（內(nèi)徑）建議將排氣管接至室外

場地溫度：≤40℃

相對濕度：RH（35-85）%