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動態(tài)光散射較優(yōu)擬合累積分析法

時間:2023/5/8閱讀:2255
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  動態(tài)光散射是測量納米顆粒大小的有效方法,但使用線性累積分析法反演的顆粒直徑受數(shù)據(jù)點(diǎn)長度的影響較大,,數(shù)據(jù)點(diǎn)長度不同,擬合結(jié)果也不同,。針對線性累積分析法的缺點(diǎn),,對比分析了線性和非線性累積分析法,并結(jié)合兩者的優(yōu)點(diǎn)提出較優(yōu)擬合累積分析法,。此算法由一階曲線擬合反演顆粒的直徑,,并與一階多項(xiàng)式擬合結(jié)果對比,獲得光強(qiáng)自相關(guān)函數(shù)的較優(yōu)線性擬合長度,,然后由二階多項(xiàng)式擬合反演顆粒的多分散系數(shù),。理論分析與實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)表明:較優(yōu)擬合累積分析法反演的顆粒直徑相對誤差和重復(fù)性均小于2%,多分散系數(shù)相對誤差小于6%,,因此利用較優(yōu)擬合累積分析法可獲得穩(wěn)定,、可靠的顆粒直徑及其多分散系數(shù)。







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