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   （1)離子刻蝕

     它是由能量為0.5~5KeV,，直徑為十分之兒納米的氮離子轟擊工件，將工件表層的原子逐個剝離的,。這種加工本質(zhì)上屬于一種原子尺度上的切削加工，因而也稱為離子銑削,。這就是近代發(fā)展起來的毫微米加工工藝,。

    (2)離子濺射沉積

     離子濺射沉積本質(zhì)上是一種鍍膜加工。它也是采用0.5一5KeV的氫離子轟擊靶材，并將靶材上的原子擊出,，沉積在靶材附近的工件上,，使工件表面鍍上一層薄膜

    (3)離子鍍膜

    離子鍍膜也稱離子濺射輔助沉積，同徉屬于一種鍍膜加工,。它將0.5-- 5Ke V的氫離子分成兩束,，同時轟擊靶材和工件表面，以增強膜材與工件基材之間的結(jié)合力,。

  C4)離子注入

    離子注入時的能量比鍍膜時大得多,，它采用5^}500KeV能量的離子束，直接轟擊被加工材料,。在如此大的能量驅(qū)動下,，離子能夠鉆入材料表層，從而達到改變材料化學成分的目的,。人們可以根據(jù)不同的目的選用不同的注入離子,，如磷、硼,、碳,、氮等，以實現(xiàn)材料的表面改性處理,。但由干離子束加工的成套設(shè)備費用高,，加工效率低，其應(yīng)用亦受到一定限制