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| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 綜合 |
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產(chǎn)品簡介
詳細(xì)介紹
高分辨率校準(zhǔn)標(biāo)樣:綜述
Applied Nanotools為高分辨率應(yīng)用提供X射線,，EUV和可見光顯微鏡的校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn),。 這些高質(zhì)量的光學(xué)元件包括各種校準(zhǔn)元件，可在以下SEM圖像中看到：
ANT Design
ANT校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)設(shè)計用于具有納米級特征的X射線成像系統(tǒng)的高分辨率要求,。適用于軟X射線和硬X射線機(jī)制以及光學(xué)設(shè)置,。
Nested Ls
嵌套的Ls或彎頭允許高分辨率測量，保證間距和效率,。在高分辨率標(biāo)準(zhǔn)下低至15 nm半間距,。
Siemen star
該圖案允許校準(zhǔn)和準(zhǔn)確比較X射線與其他成像方法的光學(xué)分辨率。
NanoUSAF 1951
Applied Nanotool的定制設(shè)計NanoUSAF 1951基于USAF 1951設(shè)計,，但具有納米而非微米的特征校準(zhǔn)標(biāo)樣價格列表
| Device | Base Price |
| Ultra-High Resolution Soft X-Ray Calibration Standard (70 nm Au) (15 nm half pitch) | USD $5000 |
| Soft X-Ray Calibration Standard (200 nm Au) (20 nm half pitch or better) | USD $4500 |
| Hard X-Ray Calibration Standard (>600 nm Au) (25 nm half-pitch or better) | USD $6000 |
| Features Include: • Nested L’s • Siemen star patterns (large and small) • Varying pitch gratings and meshe • Nano USAF 1951 | |
| Customization | Extra Fee |
| • Custom Logo (Max 50 µm 2 area) | $1000 |
| • Low stress 50 nm silicon nitride membrane | $2000 |
| • Low stress 100 nm silicon carbide membrane | $2500 |
| • Fused Silica Substrate (~500 um thick) Chrome metal on glass (positive tone-only) | $2500 |
Negative polarity (features transparent) • 30 nm minimum feature size (soft X-ray) • 50 nm minimum feature size (hard X-ray) | $1250 |
| • Custom chip sizes | Contact us |
定制膜/基材
校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)在標(biāo)準(zhǔn)的5 mm x 5 mm框架上于堅固的低應(yīng)力氮化硅膜上制造,。 熔融石英基板可用于具有鉻特征的光學(xué)顯微鏡,。
校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)在標(biāo)準(zhǔn)的5 mm x 5 mm框架上于堅固的低應(yīng)力氮化硅膜上制造。
熔融石英基板可用于具有鉻特征的光學(xué)顯微鏡定制設(shè)計
定制設(shè)計可添加具有高分辨率功能的設(shè)施徽標(biāo)（建議小元件尺寸為50 nm）,。 必須以GDSII,，EPS或矢量格式提供圖形以獲得佳分辨率。如果您需要有關(guān)徽標(biāo)提交的幫助,，請與我們聯(lián)系,。
高分辨率ANT徽標(biāo)，20納米特征,，電鍍至200納米總體布局
注：終設(shè)計可能不*如圖所示,。其他推薦產(chǎn)品
更多產(chǎn)品-
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