產(chǎn)地類別 |
國(guó)產(chǎn) |
應(yīng)用領(lǐng)域 |
醫(yī)療衛(wèi)生,化工,能源,電子/電池 |
產(chǎn)品尺寸 |
550mm (W) x600mm (D) x405mm (H) |
全封閉式桌面顯影機(jī) 主要用于半導(dǎo)體制造中晶片的顯影工藝,,性價(jià)比高,,穩(wěn)定性好,,重復(fù)性好,,對(duì)顯影作業(yè)有非常理想的效果。設(shè)備配有一路顯影和一路水,、一路氣吹功能,,并且噴嘴位置可程控移動(dòng),實(shí)現(xiàn)自動(dòng)顯影和清洗作業(yè)。
產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)
·全封閉式顯影,,避免霧氣擴(kuò)散到外部,,污染環(huán)境。
·外殼噴塑,,耐腐蝕,,易清洗。
·內(nèi)腔不銹鋼材質(zhì),,鏡面拋光處理,,光滑,耐腐蝕,,易清洗,。
·內(nèi)置真空過濾器,防止液體吸入真空泵,。
·真空壓力可調(diào),,壓力值實(shí)時(shí)顯示。
·液體流量可調(diào),,回吸可調(diào),。
產(chǎn)品參數(shù)
支持wafer尺寸:碎片至200mm(8”圓晶)
·轉(zhuǎn)速分辨率:±1 RPM
·旋涂速度:20-3000rpm(空載)
·旋涂加速度:20-10,000rpm/sec(空載)
·工藝時(shí)間設(shè)定: 0-3,000sec/step,時(shí)間設(shè)置精度: 0.1sec
·該機(jī)型適用于標(biāo)準(zhǔn)3路顯影機(jī)(1路顯影液,,1路純水,,1路氮?dú)?
·單步工藝及多步工藝可選,內(nèi)置100組可編輯程序
·可根據(jù)客戶需求定制四管路顯影機(jī)或更大基片的顯影機(jī),。