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產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)

·全封閉式顯影,，避免霧氣擴(kuò)散到外部，污染環(huán)境,。

·外殼噴塑,，耐腐蝕，易清洗,。

·內(nèi)腔不銹鋼材質(zhì),，鏡面拋光處理，光滑,，耐腐蝕,，易清洗。

·內(nèi)置真空過濾器,，防止液體吸入真空泵,。

·真空壓力可調(diào)，壓力值實(shí)時(shí)顯示。

·液體流量可調(diào),，回吸可調(diào),。

產(chǎn)品參數(shù)

支持wafer尺寸：碎片至200mm（8"圓晶）

·轉(zhuǎn)速分辨率：±1 RPM

·旋涂速度：20-3000rpm（空載）

·旋涂加速度：20-10,000rpm/sec（空載）

·工藝時(shí)間設(shè)定： 0-3,000sec/step，時(shí)間設(shè)置精度： 0.1sec

·該機(jī)型適用于標(biāo)準(zhǔn)3路顯影機(jī)（1路顯影液,，1路純水,，1路氮?dú)猓?/p>

·單步工藝及多步工藝可選，內(nèi)置100組可編輯程序

·可根據(jù)客戶需求定制四管路顯影機(jī)或更大基片的顯影機(jī),。