型號 |
PALET DDB-701 |
電源 |
220v |
精度 |
3μm |
日本桌面臺式無掩膜光刻機 PALET DDB-701與傳統(tǒng)的光刻工藝中使用鉻玻璃掩膜板進行光照不同,無掩模光刻技術是以軟件設計電子掩膜板的方法,,通過電腦控制一系列激光脈沖的開關,,在光刻膠上直接曝光繪出所要的圖案。這種方式節(jié)省了制備光刻板所需要的時間和經(jīng)費,,并且可以實現(xiàn)對光刻結構快速迭代的需求,。
日本無掩膜光刻系統(tǒng) PALET DDB-701 具有以下特點:
硬件特性:
小型化設計:結構緊湊,主機尺寸為 300mm(寬)×450mm(深)×450mm(高),,占用空間小,,方便在實驗室等空間有限的環(huán)境中使用。
內置隔振機構:采用浮動結構,,能有效抑制振動,,確保光刻過程的精度和穩(wěn)定性,無需額外配備復雜的隔振臺,,降低了對使用環(huán)境的要求,。
內置真空吸油泵:真空吸附功能可以牢固地固定工作臺上的基片或樣品,防止在光刻過程中發(fā)生位移,,保證曝光的準確性,。
低使用成本:相比一些大型的光刻設備,該設備在能源消耗,、維護成本等方面具有優(yōu)勢,,并且不需要使用冷卻液體和壓縮氣體等額外的輔助設備,降低了使用成本和設備運行的復雜性,。
軟件特性:
用戶友好型接口:操作軟件界面簡潔直觀,,易于上手,方便用戶進行操作和參數(shù)設置,,即使是非專業(yè)的光刻技術人員也能快速掌握設備的使用方法,。
簡易流程:光刻操作流程簡單,用戶只需將設計好的圖形導入軟件,,選擇相應的曝光參數(shù),,即可進行光刻操作,,大大提高了工作效率。
支持對準和曝光條件檢查:對于一些對對準精度要求較高的光刻工藝,,該設備能夠提供準確的對準功能,,確保圖形的準確曝光。同時,,用戶可以在軟件中檢查曝光條件,,以便及時調整參數(shù),,保證光刻效果12,。
光刻性能:
曝光光源:采用 365nm(典型值)的 LED 光源,具有較高的能量穩(wěn)定性和較長的使用壽命,,能夠滿足多種光刻膠的曝光需求,。
線寬精度:在使用不同物鏡的情況下,可實現(xiàn)不同的最小線寬,。例如,,在使用 ×10 物鏡時,最小線寬可達 3μm,;使用 ×2 物鏡時,,最小線寬為 15μm,能夠滿足微納結構制作的精度要求,。
曝光面積:單次曝光面積根據(jù)物鏡的不同有所差異,,如使用 ×10 物鏡時,單次曝光面積為 1mm×0.6mm,;使用 ×2 物鏡時,,單次曝光面積為 5mm×3mm。最大曝光區(qū)域為 25mm×25mm(手動或自動連接),,對于一些小型的芯片,、微流控器件等的制作具有較好的適用性。
兼容文檔格式:可接受的文檔格式豐富,,包括 dxf,、jpeg、png,、bitmap,、xps 等,方便用戶導入各種設計圖形,。
總的來說,,日本 PALET DDB-701 是一款功能較為強大、操作簡便,、性價比高的桌面臺式無掩膜光刻機,,適用于高校,、科研機構以及小型企業(yè)等進行微納結構的研發(fā)和小批量生產(chǎn)。不過,,其具體的性能和應用效果還會受到光刻膠,、環(huán)境條件等多種因素的影響。無掩膜光刻系統(tǒng)
