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產(chǎn)品信息

特殊長度

●支持從薄膜到厚膜的各種薄膜厚度

●使用反射光譜分析薄膜厚度

●實(shí)現(xiàn)非接觸、非破壞的高精度測(cè)量,，同時(shí)體積小,、價(jià)格低

●簡(jiǎn)單的條件設(shè)置和測(cè)量操作,！任何人都可以輕松測(cè)量薄膜厚度

●通過峰谷法、頻率分析法,、非線性最小二乘法,、優(yōu)化法等，可以進(jìn)行多種膜厚測(cè)量,。

●非線性最小二乘法薄膜厚度分析算法可以進(jìn)行光學(xué)常數(shù)分析（n：折射率,，k：消光計(jì)數(shù)）。

測(cè)量項(xiàng)目

絕對(duì)反射率測(cè)量

膜厚分析（10層）

光學(xué)常數(shù)分析（n：折射率,，k：消光計(jì)數(shù)）

測(cè)量對(duì)象

功能膜,、塑料
透明導(dǎo)電膜（ITO、銀納米線）,、相位差膜,、偏光膜、AR膜,、PET,、PEN、TAC,、PP,、PC、PE,、PVA、粘合劑,、膠粘劑,、保護(hù)膜、硬涂層,、防指紋,， 等等。

半導(dǎo)體
化合物半導(dǎo)體,、Si,、氧化膜、氮化膜,、Resist,、SiC、GaAs,、GaN,、InP、InGaAs,、SOI,、藍(lán)寶石等,。

表面處理
DLC涂層、防銹劑,、防霧劑等,。

光學(xué)材料
濾光片、增透膜等,。

FPD
LCD（CF,、ITO、LC,、PI）,、OLED（有機(jī)膜、封裝材料）等

其他
HDD,、磁帶,、建筑材料等

原理

測(cè)量原理

大冢電子利用光學(xué)干涉儀和自有的高精度分光光度計(jì)，實(shí)現(xiàn)非接觸,、無損,、高速、高精度的薄膜厚度測(cè)量,。光學(xué)干涉測(cè)量法是一種使用分光光度計(jì)的光學(xué)系統(tǒng)獲得的反射率來確定光學(xué)膜厚的方法,，如圖 2 所示。以涂在金屬基板上的薄膜為例,，如圖1所示,，從目標(biāo)樣品上方入射的光被薄膜表面（R1）反射。此外,，穿過薄膜的光在基板（金屬）和薄膜界面（R2）處被反射,。測(cè)量此時(shí)由于光程差引起的相移所引起的光學(xué)干涉現(xiàn)象，并根據(jù)得到的反射光譜和折射率計(jì)算膜厚的方法稱為光學(xué)干涉法,。分析方法有四種：峰谷法,、頻率分析法、非線性最小二乘法和優(yōu)化法,。

規(guī)格

設(shè)備配置

光學(xué)家譜

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