目錄:上海波銘科學(xué)儀器有限公司>>光譜系統(tǒng)>>顯微缺陷膜厚>> 分光干涉式晶圓膜厚儀 SF-3
即時檢測
WAFER基板于研磨制程中的膜厚
玻璃基板(強酸環(huán)境中)于減薄制程中的厚度變化
| SF-3 | |
|---|---|
| 膜厚測量范圍 | 0.1 μm ~ 1600 μm※1 |
| 膜厚精度 | ±0.1% 以下 |
| 重復(fù)精度 | 0.001% 以下 |
| 測量時間 | 10msec 以下 |
| 測量光源 | 半導(dǎo)體光源 |
| 測量口徑 | Φ27μm※2 |
| WD | 3 mm ~ 200 mm |
| 測量時間 | 10msec 以下 |
※1 隨光譜儀種類不同,厚度測量范圍不同
※2 最小Φ6μm
上海波銘科學(xué)儀器有限公司主要提供光譜光電集成系統(tǒng),、晶萃光學(xué)機械和光學(xué)平臺、激光器,、Edmund 光學(xué)元件,、Newport 產(chǎn)品,、濱松光電探測器、卓立漢光熒光拉曼光譜儀,、是德 Keysight 電學(xué)測試系統(tǒng),、大塚 Otsuka 膜厚儀、鑫圖科研級相機,、Semilab 半導(dǎo)體測試設(shè)備及高低溫探針臺系統(tǒng),。經(jīng)過多年的發(fā)展，上海波銘科學(xué)儀器有限公司在市場上已取得了一定的地位,。我們的產(chǎn)品和服務(wù)在行業(yè)內(nèi)具有較高的知zhi名度和美譽度,，客戶遍布全國。我們將繼續(xù)努力,，不斷提升市場地位和影響力,。
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