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| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 價格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 應用領(lǐng)域 | 環(huán)保,電子/電池,綜合 |
產(chǎn)品簡介
詳細介紹
一,、概述
ME-L 是一款科研級全自動高精度穆勒矩陣型橢偏儀，凝聚了頤光科研團隊在橢偏技術(shù)多年的投入,，其采用行業(yè)的創(chuàng)新技術(shù),，具備 1 全穆勒矩陣測量技術(shù)， 2 雙旋轉(zhuǎn)補償器同步控制技術(shù),，3 超級消色差補償器設計技術(shù),，4 納米光柵表征測量技術(shù) 等技術(shù),。可應用于各種各向同性/異性薄膜材料膜厚,、光學納米光柵常數(shù)以及一維/二維納米光柵材料結(jié)構(gòu)的表征分析,，代表當今橢偏行業(yè)技術(shù)水平。
1. 雙旋轉(zhuǎn)補償器(DRC)配置一次測量全部穆勒矩陣16個元素,；
2. 配置自動變角器,、五維樣件控制平臺等優(yōu)質(zhì)硬件模塊；
3. 軟件交互式界面配合輔助向?qū)皆O計,，易上手,、操作便捷；
4. 豐富的數(shù)據(jù)庫和幾何結(jié)構(gòu)模型庫,，保證強大數(shù)據(jù)分析能力
二,、穆勒矩陣型橢偏儀產(chǎn)品特點
1. 采用氘燈和鹵素燈復合光源，光譜覆蓋紫外到近紅外范圍 (193-2500nm),；
2. 可實現(xiàn)穆勒矩陣數(shù)據(jù)處理,，測量信息量更大，測量速度快,、數(shù)據(jù)更加準確,；
3. 基于雙旋轉(zhuǎn)補償器配置，可一次測量獲得全穆勒矩陣的16個元素,，相對傳統(tǒng)光譜橢偏儀可獲取更加豐富全面測量信息,；
4. 頤光技術(shù)確保在寬光譜范圍內(nèi)，提供優(yōu)質(zhì)穩(wěn)定的各波段光譜,；
5. 數(shù)百種材料數(shù)據(jù)庫,、多種算法模型庫，涵蓋了目前絕大部分的光電材料,；
6. 集成對納米光柵的分析,，可同時測量分析納米結(jié)構(gòu)周期、線寬,、線高,、側(cè)壁角、粗糙度等幾何形貌信息,；
三,、產(chǎn)品應用
1. 半導體薄膜結(jié)構(gòu)：介電薄膜、金屬薄膜,、高分子,、光刻膠、硅,、PZT膜,，激光二極管GaN和AlGaN,、透明的電子器件等；
2. 半導體周期性納米結(jié)構(gòu)：納米光柵,，套刻誤差,，T型相變存儲器等；
3. 新材料,，新物理現(xiàn)象研究：材料光學各向異性,，電光效應、彈光效應,、聲光效應,、磁光效應、旋光效應,、Kerr效應,、Farady效應等；
4. 平板顯示：TFT,、OLED,、等離子顯示板、柔性顯示板等,；
5. 光伏太陽能：光伏材料（如Si3N4,、Sb2Se3、Sb2S3,、CdS等）反射率,，消光系數(shù)測量，膜層厚度及表面粗糙度測量等,；
6. 功能性涂料：增透型,、自清潔型、電致變色型,、鏡面性光學涂層,，以及高分子、油類,、Al2O3表面鍍層和處理等,；
7. 生物和化學工程：有機薄膜、LB膜,、SAM膜,、蛋白子分子層、薄膜吸附,、表面改性處理等；
8. 塊狀材料分析：固體（金屬,、半導體,、介質(zhì)等）或液體（純凈物或混合物）的折射率n和消光系數(shù)k表征,，玻璃新品研發(fā)和質(zhì)量控制等。