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| 產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,化工,地礦,能源,電子 |
產(chǎn)品分類品牌分類
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AAA+級(jí)雙光太陽光模擬器 AAA太陽光模擬器 150W 太陽光模擬器 聚光太陽光模擬器 太陽能電池IV性能測試儀 太陽能電池組件測試儀 太陽能電池測試 多通道太陽能電池穩(wěn)定性測試 OLED模擬軟件 太陽能電池穩(wěn)定性測試 太陽能電池載流子測試 光纖太陽光模擬器 光譜響應(yīng)/量子效率量測儀 全光譜太陽光模擬器 太陽能電池量子效率測試系統(tǒng) AAA級(jí)太陽光模擬器 雙燈太陽光模擬器 穩(wěn)態(tài)太陽光模擬器 瞬態(tài)光電流/光電壓測試系統(tǒng) 太陽能電池載流子測試設(shè)備 載流子擴(kuò)散長度測試系統(tǒng)
產(chǎn)品簡介
詳細(xì)介紹
鋰離子電池電極應(yīng)力測量系統(tǒng)采用非接觸激光MOS技術(shù)；不但可以對(duì)樣品表面應(yīng)力分布進(jìn)行統(tǒng)計(jì)分析,，而且還可以進(jìn)行樣品表面二維應(yīng)力,、曲率成像分析；客戶可自行定義選擇使用任意一個(gè)或者一組激光點(diǎn)進(jìn)行測量,；并且這種設(shè)計(jì)始終保證所有陣列的激光光點(diǎn)始終在同一頻率運(yùn)動(dòng)或掃描,，從而有效的避免了外界振動(dòng)對(duì)測試結(jié)果的影響；同時(shí)提高測試的分辨率,；適合各種材質(zhì)和厚度薄膜應(yīng)力分析,；
原位薄膜應(yīng)力測量系統(tǒng)kSA MOS Film Stress Measurement System，又名原位薄膜應(yīng)力計(jì)或原位薄膜應(yīng)力儀,！
采用非接觸激光MOS技術(shù),；不但可以對(duì)樣品表面應(yīng)力分布進(jìn)行統(tǒng)計(jì)分析，而且還可以進(jìn)行樣品表面二維應(yīng)力,、曲率成像分析,；客戶可自行定義選擇使用任意一個(gè)或者一組激光點(diǎn)進(jìn)行測量；并且這種設(shè)計(jì)始終保證所有陣列的激光光點(diǎn)始終在同一頻率運(yùn)動(dòng)或掃描,，從而有效的避免了外界振動(dòng)對(duì)測試結(jié)果的影響；同時(shí)提高了測試的分辨率,；適合各種材質(zhì)和厚度薄膜應(yīng)力分析,；
典型用戶：Harvard University 2套，Stanford University,，Johns Hopkins University,，Brown University 2套，Karlsruhe Research Center,Max Planck Institute，西安交通大學(xué),，中國計(jì)量科學(xué)院等,、半導(dǎo)體和微電子制造商（如IBM.，Seagate Research Center,Phillips Semiconductor,NEC,，Nissan ARC,Nichia Glass Corporation）等,；
鋰離子電池電極應(yīng)力測量系統(tǒng)
相關(guān)產(chǎn)品：
*實(shí)時(shí)原位薄膜應(yīng)力儀（kSA MOS Film Stress Tester）：同樣采用多光束MOS技術(shù)，可裝在各種真空沉積設(shè)備上（如：MBE, MOCVD, sputtering, PLD, PECVD, and annealing chambers ects）,，對(duì)于薄膜生長過程中的應(yīng)力變化進(jìn)行實(shí)時(shí)原位測量和二維成像分析,；
*薄膜熱應(yīng)力測量系統(tǒng)（kSA MOS Thermal-Scan Film Stress Tester）
*薄膜應(yīng)力測量系統(tǒng)（kSA MOS Film Stress Measurement System）
設(shè)備名稱：
kSA MOS Film Stress Tester, kSA MOS Film Stress Measurement System，kSA MOS Film Stress Mapping System;
主要特點(diǎn)：
1.MOS多光束傳感器技術(shù),；
2.單Port(樣品正上方)和雙Port(對(duì)稱窗口)系統(tǒng)設(shè)計(jì),；
3.適合MOCVD, MBE, Sputter，PLD,、蒸収系統(tǒng)等各種真空薄膜沉積系統(tǒng)以及熱處理設(shè)備等,；
4.薄膜應(yīng)力各向異性測試和分析功能；
5.生長速率和薄膜厚度測量,；（選件）
6.光學(xué)常數(shù)n&k 測量,；（選件）
7.多基片測量功能；（選件）
8.基片旋轉(zhuǎn)追蹤測量功能,；（選件）
9.實(shí)時(shí)光學(xué)反饋控制技術(shù),，系統(tǒng)安裝時(shí)可設(shè)置多個(gè)測試點(diǎn)；
10.免除了測量丌受真空系統(tǒng)振動(dòng)影響,；
測試功能：
1.實(shí)時(shí)原位薄膜應(yīng)力測量
2.實(shí)時(shí)原位薄膜曲率測量
3.實(shí)時(shí)原位應(yīng)力*薄膜厚度曲線測量
4.實(shí)時(shí)原位薄膜生長全過程應(yīng)力監(jiān)控等
充放電過程
動(dòng)力學(xué)循環(huán)過程
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