光刻機(jī)/紫外曝光機(jī) (Mask Aligner)

光刻機(jī)又名：掩模對準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光系統(tǒng),，光刻系統(tǒng),，紫外曝光機(jī)等；ECOPIA為的半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商,，多年來致力于掩模對準(zhǔn)光刻機(jī)和勻膠機(jī)研發(fā)與生產(chǎn),，并且廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、微電子,、生物器件和納米科技領(lǐng)域,；該公司是目前世界上早將光刻機(jī)商品化的公司之一，擁有雄厚的技術(shù)研發(fā)力量和設(shè)備生產(chǎn)能力,；并且其設(shè)備被眾多著名企業(yè),、研發(fā)中心、研究所和高校所采用,；以的技術(shù),、*的工藝和良好的服務(wù),，贏得了用戶的青睞。

型號：M-150

技術(shù)規(guī)格：

- 掩模尺寸：大7英寸,；

- 樣品尺寸：大6英寸,；

- 卡盤移動：X,Y,Z,Theta軸手動，楔形補(bǔ)償調(diào)平,；

- 紫外光源：6.25" X 6.25",；

- 光源功率：350瓦紫外燈；

- 光源均勻性：<+/-3%,；

- 光源365nm波長強(qiáng)度：大30毫瓦,；

- 顯微鏡：雙顯微鏡系統(tǒng)；

- 顯微鏡移動：X,Y,Z軸手動調(diào)節(jié),；

- 顯微鏡物鏡空間：50-150mm,；

- 標(biāo)配放大倍率：80X-400X；

- 顯示器：20" LCD,；

- 曝光時間：0.1-999秒,；

- 接觸模式：真空接觸，硬接觸,，軟接觸,，接近接觸(距離可調(diào))；

- 對準(zhǔn)精度：1um (Vacuum Contact), 1.5um(Hard Contact), 3um(Soft Contact), 5um(Proximity Mode),；

- 電源：220V,，單相，15安培,；

主要特點:

- 光源強(qiáng)度可控,；

- 紫外曝光，深紫外曝光(Option),；

- 系統(tǒng)控制：手動、半自動和全自動控制,；

- 曝光模式：真空接觸模式(接觸力可調(diào)),Proximity接近模式, 投影模式,；

- 真空吸盤范圍可調(diào)；

-技術(shù)：可雙面對準(zhǔn),，可雙面光刻,，具有IR和CCD模式

- 雙CCD顯微鏡系統(tǒng)，大放大1000倍,，顯示屏直接調(diào)節(jié),，比傳統(tǒng)目鏡對準(zhǔn)更方便快捷，易于操作,。

- 特殊的基底卡盤可定做,；

- 具有楔形補(bǔ)償功能,；