Hitachi日立高新熒光分布成像系統(tǒng)
上市時(shí)間：2019年10月
創(chuàng)新點(diǎn)主要有兩個(gè)方面：硬件方面：將熒光分光度計(jì)與CMOS相機(jī)結(jié)合在一起,，能夠同時(shí)觀察樣品光譜和圖像的技術(shù)。軟件方面：運(yùn)用了智能光譜算法,，可以獲取樣品任意區(qū)域的光譜信息,。常規(guī)的熒光分光光度計(jì)測(cè)得的是樣品表面信息平均化的信號(hào)，得到的是一條熒光光譜,，這個(gè)新的系統(tǒng)能夠?qū)悠繁砻孢M(jìn)行分區(qū),，從而獲得不同區(qū)域的光譜信號(hào)，使得光譜信息細(xì)致化了,。

Hitachi日立高新熒光分布成像系統(tǒng)產(chǎn)品簡(jiǎn)介

1.  熒光分布成像系統(tǒng)（EEM View）簡(jiǎn)介

作為熒光分光光度計(jì)的配件系統(tǒng),，這是將相機(jī)與熒光分光光度計(jì)的完美結(jié)合，融合了智能算法的*技術(shù),。能夠同時(shí)獲取樣品圖像和光譜信息,。

新型熒光分布成像系統(tǒng)可安裝到F-7100熒光分光光度計(jì)的樣品倉(cāng)內(nèi)。入射 光經(jīng)過(guò)積分球的漫反射后均勻照射到樣品，利用F-7100標(biāo)配的熒光檢測(cè)器可以獲得樣品熒光光譜,，結(jié)合積分球下方的CMOS相機(jī)可獲得樣品圖像,，并利用*的AI光譜圖像處理算法，可以同時(shí)得到反射和熒光圖像,。

2.  熒光分布成像系統(tǒng)特點(diǎn)：
①測(cè)定樣品的光譜數(shù)據(jù)（反射光,、熒光特性）
②在不同光源條件下（白光和單色光）拍攝圖像（區(qū)域：Φ20mm、空間分辨率：0.1 mm左右,、波長(zhǎng)范圍：360-700nm）
③利用自主研發(fā)的分析系統(tǒng)1),，分開顯示熒光圖像和反射圖像
④根據(jù)圖像可獲得不同區(qū)域的光譜信息（熒光光譜、反射光譜）

 國(guó)立信息學(xué)研究所 佐藤IMARI 教授?鄭銀強(qiáng)副教授共同研究成果
熒光分布成像系統(tǒng)軟件分析（EEM View Analysis）界面(樣品：LED電路板)

 

樣品安裝簡(jiǎn)單,，適用于各種樣品測(cè)試
樣品只需擺放到積分球上,，安裝十分簡(jiǎn)單！
豐富的樣品支架

支持準(zhǔn)確測(cè)量的校正工具

 

總結(jié)
以上為熒光分布成像系統(tǒng)的特點(diǎn)和功能結(jié)束,，這是一種全新的技術(shù),，將它配置到熒光分光光度計(jì)中，改變了常規(guī)熒光光度計(jì)只能獲得樣品表面區(qū)域平均化信息的現(xiàn)狀,，可以查看樣品圖像任意區(qū)域的光譜信息,，十分適合涂料、材料,、油墨,、LED、化工等領(lǐng)域,。
 

注：該儀器未取得中華人民共和國(guó)醫(yī)療器械注冊(cè)證,，不可用于臨床診斷或治療等相關(guān)用途