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| 產(chǎn)地類別 | 進口 | 價格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 應用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,生物產(chǎn)業(yè),石油 |
日立高新離子研磨裝置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）的混合模式帶有兩種研磨配置：
斷面加工：將樣品斷面研磨光滑,，便于表面以下結(jié)構(gòu)高分辨成像,。
平面研磨：將樣品表面均勻研磨5平方毫米，從不同角度有選擇
產(chǎn)品簡介
詳細介紹
Hitachi日立高新離子研磨裝置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）具有斷面加工和平面研磨功能的混合儀器,！
日立高新離子研磨裝置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）的混合模式帶有兩種研磨配置：
斷面加工：將樣品斷面研磨光滑,，便于表面以下結(jié)構(gòu)高分辨成像。
平面研磨：將樣品表面均勻研磨5平方毫米,，從不同角度有選擇地研磨,，以便突出樣品的表面特性。
日立高新離子研磨裝置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）的高通量能提高加工效率：與之前的E-3500型相比,，采用新型離子槍設計,，減少了橫截面研磨時間。（大加工率：硅元素為300微米/小時--加工時間減少了66%,。
日立高新離子研磨裝置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）的可拆卸樣品臺裝置：為便于樣品設置和定義研磨邊緣,，可將樣品臺裝置拆卸。
Hitachi日立高新離子研磨裝置IM4000?特點
混合模式：兩種研磨配置
斷面加工：將樣品斷面研磨光滑,，便于表面高分辨觀察
平面研磨：不同角度有選擇地,，大面積，均勻地研磨5 mm的平面,，以突顯樣品的表面特性
高效：提高加工效率,，與之前的E-3500型相比，采用新型離子槍設計,，減少了橫截面研磨時間(大加工速度：硅材質(zhì)為300 μm/h - 加工時間減少了66%)
可拆卸式樣品臺：為便于樣品設置和邊緣研磨,，樣品臺設計為可拆卸型
規(guī)格
| 項目 | 描述 | |
| 斷面加工臺 | 平面研磨臺 | |
| 氣源 | 氬氣(Ar) | |
| 加速電壓 | 0-6Kv | |
| 大研磨速率﹡¹﹡²（硅材質(zhì)） | 約300μm/h﹡¹﹡² | 約20μm/h﹡³（點） 約2μm/h﹡?（面） |
| 大樣品尺寸 | 20（W）×12(D)×7(H)mm | Φ50×25(H)mm |
| 樣品移動范圍 | X±7mm,Y0－＋3mm | X0－＋5mm |
| 旋轉(zhuǎn)角度 | - | 1r/m，25r/m |
| 擺動角度 | ±15°,，±30°,，±40° | ±60°，±90° |
| 傾斜 | - | 0-90° |
| 氣體流量控制系統(tǒng) | 流量調(diào)節(jié)器 | |
| 排氣系統(tǒng) | 渦輪分子泵(33L/S)+機械泵(50Hz時,，135L/min,60Hz時,，162L/min) | |
| 儀器外觀尺寸 | 616（W）×705(D)×312(H)mm | |
| 儀器重量 | 主機48kg+機械泵28Kg | |
| 可選附件 | 光學顯微鏡（用于觀測研磨中的樣品） | |
﹡¹：此研磨速率是對研磨板邊緣處的硅材質(zhì)的材料研磨至100μm粒度時所獲得的大深度值 ﹡²：此研磨速率是對硅材質(zhì)的材料進行研磨兩小時后獲得的平均值 ﹡³：照射角度60°偏心值4mm ﹡?:照射角度0°偏心值0mm
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