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鋼研納克雙向觀測(cè)ICP光譜儀

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  • 型號(hào) Plasma3000
  • 品牌 鋼研納克/NCS
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)商
  • 所在地 北京市
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更新時(shí)間:2023/10/30 14:34:22瀏覽次數(shù):3215

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

價(jià)格區(qū)間 面議 儀器種類 全譜直讀
應(yīng)用領(lǐng)域 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,食品,化工,石油
鋼研納克雙向觀測(cè)ICP光譜儀源于鋼鐵研究總院,35年電感耦合等離子體光譜儀方法開發(fā)經(jīng)驗(yàn),數(shù)十項(xiàng)ICP檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)的起草單位,ICP光譜儀產(chǎn)品標(biāo)準(zhǔn)GB/T 36244-2018起草單位,重大科學(xué)儀器專項(xiàng)《ICP痕量分析儀器的研制》牽頭單位,懂ICP應(yīng)用的國(guó)產(chǎn)ICP光譜儀制造商,。

詳細(xì)介紹

鋼研納克雙向觀測(cè)ICP光譜儀

儀器介紹

Plasma 3000 ICP光譜儀可廣泛適用于冶金,、地質(zhì)、材料,、環(huán)境,、食品、醫(yī)藥,、石油,、化工、生物,、水質(zhì)等各領(lǐng)域的元素分析,。

Plasma 3000 ICP光譜儀具有垂直火炬,雙向觀測(cè),,冷錐消除尾焰,,具有更寬的動(dòng)態(tài)線性范圍和更低的背景。

固態(tài)射頻發(fā)生器,,高效穩(wěn)定,,體積小巧,匹配速度快,,確保Plasma 3000 ICP光譜儀高精度運(yùn)行及優(yōu)異的長(zhǎng)期穩(wěn)定性,。

高速面陣 CCD 采集技術(shù),單次曝光獲取全部譜線信息,,Plasma 3000 ICP光譜儀真正實(shí)現(xiàn)“全譜直讀",。

功能強(qiáng)大的軟件系統(tǒng),簡(jiǎn)化分析方法的開發(fā)過(guò)程,。應(yīng)用工程師為ICP光譜儀用戶量身打造簡(jiǎn)潔,、舒適的操作體驗(yàn)。

鋼研納克雙向觀測(cè)ICP光譜儀

技術(shù)參數(shù)

Plasma 3000 ICP光譜儀分析性能

檢 出 限:亞 ppb- ppb 短期穩(wěn)定性:RSD ≤ 0.5%(1mg/L)
長(zhǎng)期穩(wěn)定性:RSD ≤ 1.0%(4h,,1mg/L)

光源:自激式固態(tài)射頻發(fā)生器,,功率連續(xù) 1 瓦可調(diào) 震蕩頻率:27.12MHz

輸出功率:700W-1600W 功率穩(wěn)定性:< 0.1%

儀器規(guī)格:尺寸:寬 x 深 x 高(2650px x 1675px x 1875px) 重  量:約 180kg

光學(xué)系統(tǒng):分析譜線范圍:165-950nm

分  辨  率: 0.007nm@200nm 光室恒溫:38℃ ±0.1℃

CCD 像素:1024x 1024;單像素面積:24μm x 24μm

實(shí)驗(yàn)室濕度環(huán)境:相對(duì)濕度 20%~80% 氬氣純度:不小于 99.995%

排  風(fēng):不小于 400 立方米 / 小時(shí)

電  源:200V~240V AC 單相,;50Hz~60Hz,;4kVA


鋼研納克雙向觀測(cè)ICP光譜儀

儀器特點(diǎn)

分光系統(tǒng)

Plasma 3000 ICP光譜儀采用徑向觀測(cè)與軸向觀測(cè)設(shè)計(jì),適應(yīng)亞ppm到高含量的元素測(cè)量,。 中階梯光柵與棱鏡交叉色散結(jié)構(gòu),,使用CaF2棱鏡,提高光路傳輸效率,。 優(yōu)化的光學(xué)設(shè)計(jì),,采用非球面光學(xué)元件,改善成像質(zhì)量,提高光譜采集效率,。 光室氣體氛圍保持技術(shù),,縮短光室充氣時(shí)間,提高紫外光譜靈敏度及穩(wěn)定性,,開機(jī)即可測(cè)量,。 包圍式立體控溫系統(tǒng),保障光學(xué)系統(tǒng)長(zhǎng)期穩(wěn)定無(wú)漂移,。


光源

固態(tài)射頻發(fā)生器,,高效穩(wěn)定,體積小巧,,效率高,,匹配速度快,鋼研納克Plasma 3000 ICP光譜儀能適應(yīng)各種復(fù)雜基體樣品及揮發(fā)性有機(jī)溶劑的測(cè)試,,均能獲得優(yōu)異的長(zhǎng)期穩(wěn)定性,。 垂直炬管的設(shè)計(jì),具有更好的樣品耐受性,,減少了清潔需求,,降低了備用炬管的消耗,。 冷錐消除尾焰技術(shù),,大程度地降低自吸效應(yīng)和電離干擾,從而獲得更寬的動(dòng)態(tài)線性范圍和更 低的背景,,保證準(zhǔn)確的測(cè)量結(jié)果,。 具有綠色節(jié)能待機(jī)模式,待機(jī)時(shí)降低輸出功率,,減小氣體流量,,僅維持等離子體運(yùn)行,節(jié)約使用成本,。

簡(jiǎn)潔的炬管安裝定位設(shè)計(jì),,快速定位,精確的位置重現(xiàn),。 實(shí)時(shí)監(jiān)控儀器運(yùn)行參數(shù),,高性能CAN工業(yè)現(xiàn)場(chǎng)總線,保障通訊高效可靠,。


進(jìn)樣系統(tǒng)

簡(jiǎn)潔的炬管安裝設(shè)計(jì),,自動(dòng)定位炬管位置,精確的位置重現(xiàn),。鋼研納克Plasma 3000 ICP光譜儀配備系列經(jīng)過(guò)優(yōu)化的進(jìn)樣系統(tǒng),,可用于有機(jī)溶劑、高鹽/復(fù)雜基體樣品、含氫氟酸(HF) 等樣品的測(cè)試,。

使用可拆卸式或一體式炬管,,易于維護(hù),轉(zhuǎn)換快速,,使用成本低,。Plasma 3000 ICP光譜儀使用質(zhì)量流量控制器控制冷卻氣、輔助氣和載氣的流量,,保障測(cè)試性能長(zhǎng)期穩(wěn)定,。 多通道12滾輪蠕動(dòng)泵,提升樣品導(dǎo)入穩(wěn)定性,。

檢測(cè)器

大面積背照式CCD檢測(cè)器,全譜段響應(yīng),,高紫外量子化效率,抗飽和溢出,,具有極寬的動(dòng)態(tài)范 圍和極快的信號(hào)處理速度,。 一次曝光,完成全譜光譜信號(hào)的采集讀取,,從而獲得更為快速,、準(zhǔn)確的分析結(jié)果。Plasma 3000 ICP光譜儀具有同類產(chǎn)品中大靶面尺寸,,*像素,,單像素面積24μm X 24μm,三級(jí)半導(dǎo)體制冷,制冷溫 度 低,,具有更低的噪聲和更好的穩(wěn)定性,。

軟件系統(tǒng)

人性化的界面設(shè)計(jì),流暢易懂,,簡(jiǎn)便易用,,針對(duì)分析應(yīng)用優(yōu)化的軟件系統(tǒng),無(wú)須復(fù)雜的方法開發(fā),, 即可快速開展分析操作,。

豐富的譜線庫(kù),智能提示潛在干擾元素,,幫助用戶合理選擇分析譜線,。 輕松的觀測(cè)方式設(shè)置,直觀的測(cè)試結(jié)果顯示,。

安全防護(hù)

*電磁屏蔽,,減少電磁輻射 連鎖門保護(hù),避免用戶誤操作可能帶來(lái)的風(fēng)險(xiǎn) 防紫外觀測(cè)窗

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