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一,、概述

IRE-200光學薄膜測厚儀是一款超高精度的外延層厚度測量設備,，利用紅外光譜經(jīng)傅里葉變換進行快速分析，主要應用于Si,、GaAs,、InP,、SiC、GaN等各類外延片的外延層厚度測量,。

■ 單拋/雙拋等多種模式選擇支持,；

■ 自定義mapping功能；

■ 高檢測速率：Si標準外延片測量25點≤3min,；

■ 高檢測精度：≤0.01um ,。

二、產(chǎn)品特點

1）設備采用高性能光源模塊,，光源穩(wěn)定性好,，信噪比高，覆蓋范圍7800-350cm^-1,。

2）搭配自主研發(fā)算法軟件,，可精準快速地獲取測量結(jié)果。

3) 搭配自主研發(fā)的mapping運動臺,，定位精準,、測量速度快。

三,、產(chǎn)品應用

 IRE-200廣泛應用于半導體行業(yè)中Si,、SiC、GaAs,、InP,、GaN等基底材料上外延層厚度的量測。

SiC EPI量測案例

技術參數(shù)