一,、概述

IRE-200光學(xué)薄膜測厚儀是一款超高精度的外延層厚度測量設(shè)備，利用紅外光譜經(jīng)傅里葉變換進(jìn)行快速分析,，主要應(yīng)用于Si,、GaAs、InP,、SiC,、GaN等各類外延片的外延層厚度測量。

■ 單拋/雙拋等多種模式選擇支持,；

■ 自定義mapping功能,；

■ 高檢測速率：Si標(biāo)準(zhǔn)外延片測量25點≤3min；

■ 高檢測精度：≤0.01um ,。

二,、產(chǎn)品特點

1）設(shè)備采用高性能光源模塊,，光源穩(wěn)定性好，信噪比高,，覆蓋范圍7800-350cm^-1,。

2）搭配自主研發(fā)算法軟件，可精準(zhǔn)快速地獲取測量結(jié)果,。

3) 搭配自主研發(fā)的mapping運動臺,，定位精準(zhǔn),、測量速度快,。

三,、產(chǎn)品應(yīng)用

 IRE-200廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)中Si,、SiC、GaAs,、InP,、GaN等基底材料上外延層厚度的量測,。

SiC EPI量測案例

技術(shù)參數(shù)