目錄:山東霍爾德電子科技有限公司>>實驗儀器>>游離二氧化硅前處理儀>> HD-Si12全自動游離二氧化硅前處理工作站
產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,食品,化工,綜合 |
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全自動游離二氧化硅前處理工作站依據(jù)國家職業(yè)衛(wèi)生標準《GBZ/T 192.4-2007工作場所空氣中粉塵測定 第4部分:游離二氧化硅含量》中規(guī)定的前處理步驟,,自動完成添加焦磷酸,、自動加熱攪拌,、自動升溫、15分鐘消解過程準確控溫在245℃-250℃,、自動降溫,、自動注水,、自動復(fù)溫、自動過濾,、自動清洗等功能,整個過程無需人員值守,,實現(xiàn)了游離二氧化硅分離前處理的自動化,。
全自動游離二氧化硅前處理工作站主要技術(shù)參數(shù)
*2.1全自動一體機,自動完成加焦磷酸,、消解,、降溫,、過濾、清洗等實驗步驟,,滿足國標要求,,保證數(shù)據(jù)準確性。
*2.2儀器具有加水后復(fù)溫功能,,過濾過程中,,可對液體實時混勻,,混勻速度可調(diào)。
*2.3配備≥12個樣本位,,≥12個過濾位,。特制玻璃樣品杯,保障樣品快速均勻加熱,,特制過濾裝置,,耐酸堿耐高溫,,實現(xiàn)快速過濾。樣本可連續(xù)上機,,實現(xiàn)不停機做樣,。
2.4運行過程中無需轉(zhuǎn)移樣品,減少樣品在不同器皿之間轉(zhuǎn)移過程中的損失,。
2.5儀器可以自動添加焦磷酸至樣品中,,無需手工添加。
2.6儀器具有自動降溫功能,,消解后樣品架離開加熱位,,完成快速降溫。
2.7自動控溫加熱,,10min內(nèi)液體升溫至245℃,15分鐘保持在245℃-250℃,。
*2.8采用雙感溫控探頭,實時監(jiān)控液體溫度,,控溫精度±0.1℃。
2.9儀器采用一體恒溫加熱模組,,各加熱位溫度均勻一致,。
2.10儀器采用耐酸堿高精度計量泵,加液精度<1%,。
2.11特制攪拌棒,,攪拌測溫一體設(shè)計,,攪拌速度可調(diào)節(jié),保證樣品攪拌均勻,。
2.12具有磷酸制備焦磷酸功能,,可自動加磷酸,在線制備焦磷酸,。
主要配置清單
3.1全自動游離二氧化硅前處理工作站主機 1臺
3.2 特制樣品杯 12個
3.3 特制過濾裝置 12個
3.4 硅膠管 1套
3.5 廢液桶 1個
3.6 試劑桶 1個
3.7 實驗用水自動加熱恒溫裝置 1套
3.8 系統(tǒng)控制軟件 1套
3.9 慢性定量濾紙 1盒
3.10自動加焦磷酸裝置(選配) 1套