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一,、摩方精密3D打印產(chǎn)品介紹

nanoArch®是采用PUSL（面投影微立體光刻）技術(shù),，用于實(shí)現(xiàn)高精度多材料微納尺度3D打印的設(shè)備,。通過將紫外光投影到液態(tài)樹脂表面使其固化,，逐層累加從而完成產(chǎn)品的制作。通過一次曝光可以完成一層的制作,。

科研級3D打印系統(tǒng),，擁有超高打印精度和超低打印層厚，從而實(shí)現(xiàn)超高精度的樣件制作,，非常適合高校和研究機(jī)構(gòu)用于科學(xué)研究及應(yīng)用創(chuàng)新,。

二,、摩方精密3D打印產(chǎn)品特性

1、可定制高定位精度的光學(xué)系統(tǒng)和運(yùn)動平臺,，兩者最高分辨率皆可達(dá)到20μm,。

2、采用圖像拼接成型方式解決成型精度與大尺寸成型之間的矛盾,。

3,、通過工藝技術(shù)控制，實(shí)現(xiàn)3D打印成品的表面光滑,。

4,、光學(xué)方面：光學(xué)實(shí)時(shí)監(jiān)控，實(shí)現(xiàn)自動對焦及曝光補(bǔ)償,。

5,、軟件系統(tǒng)：nanoArch圖形界面控制系統(tǒng),，參數(shù)端口開放,。

三、使用環(huán)境要求

1,、需避免的場合：

垃圾,、灰塵,、油霧多的場所；

震動以及沖擊多的場所,；

能觸及藥品和易燃易爆物的場所,；

高頻干擾源附近的場所；

溫度會急劇變化的場所,；

在CO2,、NOX、SOX等濃度高的環(huán)境中,。

2,、環(huán)境濕度：40%-60%

3、環(huán)境溫度：25±3℃

4,、電力需求：

100-240V/單相/50/60Hz/15A,；

供電電網(wǎng)波動：＜5%；

電網(wǎng)地線符合機(jī)房國標(biāo)要求,。