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多檢體納米粒徑測量系統(tǒng)

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  • 多檢體納米粒徑測量系統(tǒng)
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參考價 面議
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 型號 nanoSAQLA
  • 品牌 OTSUKA/日本大塚
  • 廠商性質 生產商
  • 所在地 蘇州市
在線詢價 收藏產品

更新時間:2020-06-30 13:21:24瀏覽次數(shù):1650

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產品簡介

測量范圍 0.6nm~10μm微米 產地類別 進口
分散方式 濕法分散 價格區(qū)間 20萬-30萬
儀器種類 動態(tài)光散射 應用領域 食品,電子,制藥
多檢體納米粒徑測量系統(tǒng)nanoSAQLA利用光的散射簡單且輕松的測量粒徑,。大可連續(xù)測量5個樣品,。

詳細介紹

 多檢體納米粒徑測量系統(tǒng) nanoSAQLA

多檢體納米粒徑量測系統(tǒng)nanoSAQLa

多檢體納米粒徑測量系統(tǒng)nanoSAQLA利用動態(tài)光散射法(DLS法)的粒徑測量(粒徑0.6nm~10μm)儀器。

追求更高品質管理的需求,,搭載了各種功能,。

可對應檢體范圍廣,低濃度~高濃度類,,新光學系,,輕便•小型,實驗室標配,。實現(xiàn)標準1分鐘高速測量,。

新產品,非浸泡型,,不受夾雜物的影響,,無自動取樣器,“5檢體連續(xù)測量”的標準設備,。

特點

  • 只需一臺,,輕松實現(xiàn)5檢體連續(xù)測量
  • 低濃度到高濃度都可對應
  • 高速測量,標準時間1分鐘
  • 搭載了簡單的測量功能 (1鍵測量)
  • 內置非浸泡型的cell block,,無分注夾雜物
  • 搭載溫度梯度功能

測量范圍(理論值)

  • 粒徑 0.6nm~10μm
  • 濃度范圍 0.00001~40%
  • 溫度范圍 0~90℃*

式樣

型號 多檢體納米粒徑測量系統(tǒng)
測量原理 動態(tài)光散射法
光源 高出力半導體激光*1
檢出器 高感光度APD
連續(xù)測量 5檢體
測量范圍 0.6nm ~ 10μm
對應濃度 0.00001 ~ 40% *2
溫度 0 ~ 90℃ (有溫度梯度功能) *3
規(guī)格 遵照 ISO 22412:2017
遵照JIS Z 8828:2013
遵照JIS Z 8826:2005
尺寸 W240 X D480 X H375 mm
重量 約18 kg
軟件 平均粒徑解析 (累積法解析)
粒度分布解析
(Marquardt法/NNLS/Contin法/Unimodal法)
粒度分布疊寫
逆相關函數(shù)?殘差plot
粒徑monitor
粒徑顯示范圍 (0.1 ~ 106 nm)
分子量計算功能

 

*1 根據(jù)激光安全基準 (JIS C6802)級別區(qū)分,,本儀器的安全級別為1級,。
*2 Latex120nm:0.00001 ~ 10%、牛黃膽酸:~40%
*3 標準glass cell的批量測量的情況,。
一次性cell或連續(xù)測量時,, 15 ~ 40℃ (不對應溫度梯度)

 

測量范例

01.png

 

a02.jpg

 

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