用途

半導(dǎo)體制造中的光刻膠剝離或表面殘留物去除,、印刷電路板的干式清洗、光學(xué)/金屬/機(jī)械等精密部件的清洗,、提高各種材料的粘接性,、塑料封裝前處理,、表面改質(zhì)處理,、灰化、蝕刻處理,、界面活性處理,、促進(jìn)種子發(fā)牙等。

應(yīng)用行業(yè)

高校,、電子,、半導(dǎo)體、光學(xué),、生物,、醫(yī)藥、FPD平板顯示器,、新材料,、LED、農(nóng)業(yè),。

 雅馬拓等離子清洗機(jī)

應(yīng)用舉例

金屬氧化物?氫氧化物的去除
     氫氧化鈣的去除,。

 有機(jī)物的去除
     蛋白質(zhì)、脂肪,、碳水化合物,、氨基酸的去除。

 表面改質(zhì)（提高親水性）
     提高粘附性,、提高涂裝品質(zhì),、提高印字濕潤性。

對比

雅馬拓等離子清洗機(jī)